智慧財產法院民事判決
103年度民專上字第37號
上 訴 人 統盈國際企業有限公司
法定
代理人 邱德明
訴訟代理人 徐偉峯
律師
尤彰澤 律師
被
上訴人 詠興鋁器實業有限公司
法定代理人 洪坤池
訴訟代理人 何建宏 律師
陳昱良 律師
上列
當事人間侵害專利權有關財產權爭議等事件，上訴人對於中
華民國103 年9 月30日本院102 年度民專訴字第130 號第一審判
決提起上訴，本院於104 年8 月20日
言詞辯論終結，判決如下：
主 文
上訴駁回。
第二審
訴訟費用由上訴人負擔。
事實及理由
壹、程序事項：
按依專利法、商標法、著作權法、光碟管理條例、營業秘密
法、積體電路電路布局保護法、植物品種及種苗法或公平交
易法所保護之智慧財產權益所生之第一審及第二審民事訴訟
事件，
暨其他依
法律規定或經司法院指定由智慧財產法院管
轄之民事事件，均由智慧財產法院管轄。對於智慧財產事件
之第一審
裁判不服而上訴或
抗告者，向管轄之智慧財產法院
為之。智慧財產法院組織法第3 條第1 款、第4 款與智慧財
產案件審理法第7 條、第19條分別定有明文。職是，智慧財
產第一審民事事件並
非由智慧財產法院
專屬管轄，其屬優先
管轄之性質，雖得由普通法院管轄，然為統一法律見解，其
上訴或抗告自應由專業之智慧財產法院受理。查
本件因被上
訴人侵害上訴人之專利財產權，係專利法所生之第二審民事
事件，
揆諸前揭說明，本院依法自有專屬
管轄權。
貳、實體事項：
一、上訴人之主張：
(一)上訴人起訴聲明：1.被上訴人與原審
被告洪坤池應
連帶給付
上訴人新臺幣（下同）100萬元，並自民國102年11月30日起
至清償日止，
按年息5%計算之利息。2.被上訴人不得自行或
使
第三人直接或間接為製造、販賣之要約、販賣、使用或為
上述目的而進口商品名稱為「鐤上美鑽石雕刻不沾鍋」產品
（下稱
系爭產品），亦不得為其他一切侵害上訴人之中華民
國第M367665 號專利，名稱「鍋」新型專利（下稱系爭專利
）之行為。被上訴人就已流通至市面上之系爭產品，應全部
予以回收。3.上訴人願供
擔保，請准宣告
假執行。並主張如
後：
1.上訴人為系爭專利之專利權人：
上訴人為系爭專利之專利權人，專利權
期間自98年11月1 日
起至108 年7 月1 日止。上訴人前於公開市場發現訴外人魏
金田販售系爭產品，系爭產品技術特徵與結構配置，均與系
爭專利相似。上訴人
嗣於102 年8 月8 日派員購得系爭產品
，並取得被上訴人所開立之收據為憑。
2.被上訴人侵害上訴人之專利權：
上訴人將系爭產品送請長江國際專利商標法律事務所（下稱
長江事務所）鑑定，認定系爭產品落入系爭專利請求項1 至
3 與5 至6 。被上訴人未經上訴人授權或同意，擅自製造販
售系爭產品，構成對系爭專利權之侵害，故請求被上訴人不
得自行或使第三人直接或間接為製造、為販賣之要約、販賣
、使用或為上述目的而進口系爭產品，亦不得為其他一切侵
害系爭專利之行為。至於已流通於市面上之系爭產品，亦應
全部予以回收。因原審被告洪坤池為被上訴人之負責人，應
與被上訴人連帶負
損害賠償責任。職是，
爰依專利法第120
條
準用第96條與第97條第1 項第2 款、民事訴訟法第244 條
第4 項及公司法第23條第2 項等規定，暫先請求被上訴人與
原審被告洪坤池連帶賠償最低金額100萬元。
(二)原審為上訴人全部敗訴之判決，上訴人提起
上訴聲明：1.原
判決廢棄。2.被上訴人應給付上訴人100 萬元，並自
起訴狀
繕本送達之
翌日起至清償日止，按年息5%計算之利息。3.被
上訴人不得自行或使第三人直接或間接為製造、販賣之要約
、販賣、使用或為上述目的而進口系爭產品，亦不得為其他
一切侵害上訴人系爭專利之行為。被上訴人已流通至市面之
系爭產品，應全部予以回收。4.上訴人願供擔保，請准宣告
假執行。並主張如後：
1.系爭產品落入系爭專利請求項1：
⑴系爭專利請求項1 ，其於鍋底面佈設多數個凹槽(21)，多數
個凹槽間形成紋路(20)，並於多數個凹槽中設置不沾黏層(3
0)。再者，系爭產品於鍋底部設有六角形網狀之紋路(20')
，並於六角形網狀紋路間形成複數個以上呈六角形之凹槽(2
1') ，複數個凹槽內設置有不沾鍋之塗層(30') ，兩者所使
用之技術手段實質相同。
⑵系爭專利請求項1 所欲達到之功能如後：①紋路上無不沾黏
層，以紋路抵抗鍋鏟保護凹槽之不沾黏層。②不沾黏層位於
凹槽，能使食物貼於不沾黏層。系爭專利請求項1
構成要件
C 所謂平整之不沾鍋面，係指可使食物平貼於不沾黏層，達
到平均受熱煮食之功效。再者，系爭產品之不沾黏層與紋路
頂面未完全齊平，凹槽雖有深度，然其深度極淺，僅有0.12
5mm 。系爭產品於煮食時，因食物重量及彈性之故，使食物
平貼於不沾黏層，以避免烹煮用沙拉油進入各凹槽量不均。
準此，縱使系爭產品之不沾黏層與紋路頂面未完全齊平，亦
能達到使食物平貼於不沾黏層，避免烹煮用沙拉油進入各凹
槽量不均之功能，其與系爭專利請求項1 之技術特徵相同。
⑶就烹煮軟質食物而言，系爭專利請求項1 能使軟質食物平貼
於不沾黏層，避免烹煮用沙拉油進入各凹槽量不均，達到平
均受熱煮食之效果。再者，系爭產品之不沾黏層雖與紋路頂
面未完全齊平，且凹槽略有深度，然其深度極淺，僅有0.12
5mm 。因軟質食物重量及彈性之故，得使軟質食物陷入凹槽
，而平貼於不沾黏層，故系爭產品於煮食時，具有使軟質食
物平貼於不沾黏層，避免烹煮用沙拉油進入各凹槽量不均，
達到平均受熱煮食之結果。職是，系爭產品與系爭專利請求
項1 之技術特徵相同。
⑷就烹煮硬質食物以觀，因硬質食物形狀與不具彈性之特性，
使系爭專利與系爭產品均無法使硬質食物平貼於不沾黏層，
並避免烹煮用沙拉油進入各凹槽量不均，致無法平均受熱。
其與鍋具之技術特徵
無涉。準此，系爭產品與系爭專利請求
項1 之技術特徵，於烹煮硬質食物時，具有實質相同之結果
。
2.系爭產品落入系爭專利請求項2至3與5至6：
原審判決認定系爭產品未落入系爭專利請求項1 之均等範圍
，有違誤處，是原審判決以系爭產品未落入系爭專利請求項
1 之均等範圍，亦未落入系爭專利請求項2 至3 與5 至6之
均等範圍，即有違誤。
3.系爭專利並無應撤銷事由：
⑴比較被上證1 與系爭專利技術特徵如後：①被上證1 之鍋底
結構，係於鍋體表面披覆陽極氧化膜，使陽極氧化膜吸附疏
水性物質，由疏水性物質填充進入陽極氧化膜內部微孔。系
爭專利之鍋底結構，無陽極氧化膜，其直接於鍋體表面沖設
出紋路，紋路間形成凹槽，以不沾黏層將各凹槽填平。②被
上證1 為陽極氧化膜直接接觸食物，疏水性物質之功用，係
為使陽極氧化膜具不沾黏之特性。系爭專利以不沾黏層填平
鍋底表面，使食物直接接觸不沾黏層，達到不沾黏之效果。
③被上證1 利用陽極氧化膜自身之表面高硬度，抵抗金屬鏟
刮損陽極氧化膜。系爭專利係以鍋體蝕刻出之紋路，抵抗金
屬鏟刮損不沾黏層。
⑵系爭專利維持食物表面，大部分均可直接接觸不沾黏層。而
被上證1 係使食物表面，大部分接觸陽極氧化膜表面之高硬
度物質。準此，系爭專利具有較佳之不沾黏效果。系爭專利
以紋路抵抗金屬鏟之刮損，而被上證1 係利用陽極氧化膜本
身之表面高硬度，抵抗金屬鏟刮傷。職是，系爭專利有較佳
之抵抗效果，具有進步性。
二、被上訴人答辯聲明：上訴人之上訴駁回，暨如受不利判決，
被上訴人願供擔保，請准
宣告免為假執行。並答辯如後：
(一)系爭產品未落入系爭專利請求項1至3、5至6：
1.系爭產品未落入系爭專利請求項1：
分析兩者技術手段、功能、結果如後：⑴就技術手段而言：
系爭專利「使鍋底面形成平整之不沾鍋面」要件，係為使不
沾黏層之高度與紋路頂面齊平，形成平整不沾鍋面。而系爭
產品之不沾黏層低於凹槽紋路，無法形成平整不沾鍋面。⑵
就功能以觀：系爭專利之鍋底為平整不沾鍋面，可使食物與
鍋鏟接觸不沾黏層。再者，系爭產品之不沾黏層低於凹槽頂
部紋路，食物於烹煮時，無法均能接觸不沾黏層，故食物表
面無法平貼於不沾鍋面。因鍋鏟與紋路接觸，故使用鍋鏟時
，無法接觸不沾黏層。⑶就結果而言：系爭專利之鍋底面平
整，使食物平貼於不沾鍋面，達平均受熱之效果，且鍋鏟得
於鍋底面平滑鏟動；系爭產品之鍋面不平整，故食物無法平
均受熱。且鍋鏟移動時，僅能於紋路上滑動，無法產生平滑
鏟動之效果。職是，系爭產品未落入系爭專利請求項1 。
2.系爭產品未落入系爭專利請求項2至3與5至6：
系爭專利請求項2 至3 、5 至6 為系爭專利請求項1 之附屬
項，包含系爭專利請求項1 所有技術內容，並加以限定。職
是，系爭產品未落入系爭專利請求項1 之均等範圍，自未落
入系爭專利請求項2 至3 、5 至6 之均等範圍。
3.上訴人不得主張凹槽未予填平之
態樣：
上訴人於系爭專利NO1 舉發階段於
答辯書強調，系爭專利與
先前技術之差異，在於凹槽與不沾黏層填平。
益徵上訴人於
維護系爭專利權之過程，放棄凹槽未予填平之態樣，使系爭
專利得以有效存續。是上訴人自不得再擴張主張系爭專利有
不平整鍋面，否則有違
禁反言原則。準此，縱上訴人
可證明
系爭產品有落入系爭專利之均等範圍，然因上訴人已放棄凹
槽未予填平之主張，阻卻系爭專利均等範圍之擴張，故系爭
產品自不落入系爭專利請求項1至3 、5 至6 。
(二)系爭專利有應撤銷之事由：
1.被證1 至7 均可證系爭專利請求項1不具進步性：
被證1 至7 揭露系爭專利請求項1 技術特徵如後：⑴被證4
「沖模沖壓：係將無碳鐵板經預定沖模沖壓成形」技術特徵
；暨被證5 「一種不沾鍋之鍋具構造，其係包括一鍋體，鍋
體內部形成一容室，鍋體於容室之底部形成有一底面」，揭
示系爭專利請求項1 之技術特徵。⑵被證1 「鍋體底部內面
沖設形成有蜂巢狀之凸紋網路，而蜂巢狀即六角形之凸紋內
，形成圓凹部」技術特徵；被證3 「將鋁鍋鍋體內弧面，形
成多數個直徑約0.3mm 至1.6mm ，深度約80um至100um 之不
規則狀表面凸凹處理」技術特徵，暨被證7 之專利公報圖示
可知，其容器具凹凸表面之技術特徵，均揭示系爭專利請求
項1 「鍋底面佈設多數個凹槽，凹槽間形成紋路」技術特徵
。⑶被證2 專利權利要求書「其特徵在於，鍋底表面設有凹
凸花紋不粘層」；被證3 「形成陽極處理層處理：在凹凸處
理之鍋體表面，再均勻附著厚度約20um至50um氧化鋁皮膜之
陽極處理層」技術特徵；被證6 專利權利要求書「所述之波
峰、波谷及波面鍍有不粘塗層」技術特徵，暨由被證7 專利
特許公報第12段可知，其具「凹凸表面具PTFE不粘性被覆」
技術特徵，均揭示系爭專利請求項1 「其於多數個凹槽中設
置不沾黏層」技術特徵。職是，被證1 至7
足證系爭專利請
求項1 不具進步性。
2.組合引證可證系爭專利請求項2至3、5至6不具進步性：
被證2 、5 至7 分別揭示系爭專利請求項2 「擴大不沾鍋面
，其延伸之凹槽設不沾黏層與細緻紋路」技術特徵，故系爭
專利請求項2 不具進步性。系爭專利請求項3 僅為尺寸大小
之限定，無任何功效之增進，為所屬技術領域中具有通常知
識者，所能輕易完成，故被證3 可證系爭專利請求項3 不具
進步性。再者，系爭專利請求項5 之把手設置為習知結構，
為被證1 與被證5 專利之鍋身外緣周面把手所揭示，是組合
被證1 與被證2 或組合被證2 與被證5 ，均可證系爭專利請
求項5 不具進步性。系爭專利請求項6 之把手設置為習知結
構，為被證1 與被證5 專利之鍋身外緣周面把手所揭示。職
是，組合被證1 與被證2 或組合被證2 與被證5 ，可證系爭
專利請求項6不具進步性
3.被上證1可證系爭專利請求項1至3不具進步性：
⑴被上證1 揭示系爭專利請求項1 「一種鍋，其包含一體成型
之鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一
煮食空間」技術特徵。被上證1 呈凹凸不平之鋸齒狀，揭示
系爭專利請求項1 「鍋底面佈設多數個凹槽，多數個凹槽間
形成紋路」技術特徵。被上證1 於凹凸不平之鋸齒狀中，形
成陽極氧化膜，並於氧化膜微孔填充疏水性物質，形成平整
鍋底面之技術，類似系爭專利於凹槽設置不沾黏層，使鍋底
面形成平整不沾鍋面之技術。被上證1 雖先於鍋底形成陽極
氧化膜後，再於氧化膜微孔填入疏水性物質之技術，其與系
爭專利略有差異。然被上證1 於凹凸不平之鋸齒狀，填入不
具沾黏性之疏水性物質，使疏水性物質與鍋底面齊平，形成
平整不沾鍋面，揭示系爭專利請求項1 「多數個凹槽設置不
沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面」技術特徵。準此，
被上證1可證系爭專利請求項1 不具進步性。
⑵系爭專利請求項2 為系爭專利請求項1 之附屬技術特徵，其
僅將系爭專利請求項1 之技術特徵應用於不同位置，屬該技
術領域中具有通常知識者，能
參酌被上證1 所揭示之技術，
而能輕易完成。準此，被上證1 可證系爭專利請求項2 不具
進步性。
⑶系爭專利請求項3 依附於系爭專利請求項1 或系爭專利請求
項2 ，其凹槽深度界於0.06mm至0.3mm 。被上證1 雖未具體
揭露鍋體表面凹凸不平之鋸齒狀深度，然因鍋底過厚將有礙
燃燒烹煮效率，是凹槽深度自受有限制。故所屬該技術領域
中具有通常知識者，參酌被上證1 所揭示之技術，能輕易完
成。職是，被上證1 可證明系爭專利請求項3 不具進步性。
4.組合被上證1與2可證系爭專利請求項5至6不具進步性：
⑴系爭專利請求項5 依附於系爭專利請求項1 或系爭專利請求
項2 ，其附屬技術特徵為於鍋之周面設置把手。被上證1 雖
未具體揭露「鍋之周面設有把手」技術特徵，
惟鍋具通常伴
隨有把手，
乃公知且習用技術，被上證2 揭露鍋具有把手。
被上證1 可證明系爭專利請求項1 至2 不具進步性。準此，
組合被上證1 與被上證2 可證明系爭專利請求項5 不具進步
性。
⑵系爭專利請求項6 依附於系爭專利請求項3 ，其附屬技術特
徵為於鍋之周面設置把手。被上證1 雖未具體揭露「鍋之周
面設有把手」技術特徵，惟鍋具通常伴隨有把手，乃公知且
習用技術，被上證2 即揭露鍋具有把手。被上證1 可證明系
爭專利請求項3 不具進步性。準此，組合被上證1 與被上證
2 可證明系爭專利請求項6不具進步性。
三、整理與協議簡化爭點：
按受命法官為闡明訴訟關係，得整理並協議簡化爭點，民事
訴訟法第270 條之1 第1 項第3 款、第463 條分別定有明文
。法院於言詞辯論
期日，依據
兩造主張之事實與證據，經簡
化爭點協議，作為本件訴訟中攻擊與防禦之範圍。茲說明如
後（見本院卷第100 至102 頁之104 年5 月26日
準備程序筆
錄）：
(一)兩造不爭執之事實：
1.上訴人為新型第M367665 號「鍋」專利之專利權人，專利權
期間自98年11月1 日起至108 年7 月1 日止。而被上訴人前
於102 年8 月8 日販賣炒菜鍋1 支予上訴人，其價格為4 千
元。
2.系爭專利請求項1 可解析為4 個要件，分別為A 至D ：要件
A 為一種鍋；要件B 為其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底
周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間；要件C為
鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋路，其於
多數個凹槽中設置不沾黏層；要件D 使鍋底面形成平整之不
沾鍋面。
3.解析系爭產品技術特徵，可各解析為4 個要件，分別為a至
d ；要件a 為一種鍋；要件b 為其包含一體成型之鍋底及環
繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間；
要件c 為鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋
路，其於凹槽中設置不沾黏層；要件d 為鍋底面形成粗糙之
不沾鍋面。系爭產品雖可讀取系爭專利請求項1 要件A 、B
、C 之文義，惟系爭產品無法讀取系爭專利要件D 「使鍋底
面形成平整之不沾鍋面」文義。
(二)兩造主要爭點：
1.系爭專利請求項1 至3 、5 至6 是否不具進步性？
申言之：
⑴被證1 至被證7 可否證明系爭專利請求項1 不具進步性?
⑵被證2 、5 至7 可否證明系爭專利請求項2 不具進步性?
⑶被證3可否證明系爭專利請求項3不具進步性?⑷組合被證
1 與2 或組合被證2 與5 可否證明系爭專利請求項5 不具進
步性? ⑸組合被證1 與2 或組合被證2 與5 可否證明系爭專
利請求項6 不具進步性? ⑹被上證1 可否證明系爭專利請求
項1 至3 不具進步性? ⑺組合被上證1 與被上證2 可否證明
系爭專利請求項5 至6 不具進步性?
2.系爭產品是否落入系爭專利請求項1 至3 、5 至6 之均等範
圍? 系爭產品雖可讀取系爭專利請求項1 要件A 、B 、C 之
文義，惟系爭產品無法讀取系爭專利要件D 。故應運用均等
論原則，就系爭專利要件D 與系爭產品要件d 進行比對與分
析。
參、本院得
心證之理由：
一、本院應判斷系爭專利之有效性：
(一)
適用審定時之專利法：
按當事人主張或
抗辯智慧財產權有應撤銷、廢止之原因者，
法院應就其主張或抗辯有無理由自為判斷，不適用民事訴訟
法、行政訴訟法、專利法或其他法律有關停止訴訟程序之規
定。前項情形，法院認有撤銷、廢止之原因時，智慧財產權
人於該民事訴訟中不得對於
他造主張權利，智慧財產案件審
理法第16條定有明文。上訴人雖主張被上訴人之系爭產品侵
害系爭專利
云云。惟被上訴人抗辯稱系爭專利有應撤銷原因
等語。職是，系爭專利是否符合專利要件，
厥為上訴人向被
上訴人行使系爭專利之前提要件，本院自應探究系爭專利是
否合法有效。上訴人前於98年7 月2 日向經濟部智慧財產局
（下稱智慧局）申請系爭專利，智慧局嗣於98年11月1 日公
告，故系爭專利有無撤銷之原因，應以核准審定時即92年2
月6 日修正公布，93年7 月1 日施行之專利法（下稱修正前
專利法）為斷。
(二)判斷系爭專利之進步性：
按新型雖無第94條第1 項所列情事，然為其所屬技術領域中
具有通常知識者，依申請前之先前技術顯能輕易完成時，仍
不得依本法申請取得新型專利，修正前專利法第94條第4項
定有明文。職是，本院首應審究分析系爭專利與引證案之技
術特徵，作為比對引證案是否可證明系爭專利請求項1 至3
與5 至6 不具進步性之基礎（
參照本院整理當事人爭執事項
1）。
二、系爭專利與系爭產品之技術分析：
(一)系爭專利之技術內容：
系爭專利關於一種鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底
周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間，鍋底面上
佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋路，其於多數個凹
槽中設置不沾黏層予以填平，使鍋底面形成平整之不沾鍋面
，藉此設計，使不沾黏層位於凹槽，而能避免工作人員之鍋
鏟操作刮損到不沾黏層，故能確保鍋面平整美觀，並延長其
使用壽命，且使食物平貼於不沾鍋面，達到平均受熱煮食之
實用效益（見原審卷第22頁之系爭專利說明書中文新型摘要
）。
(二)系爭專利請求項分析：
系爭專利請求項共計7 項，其中請求項1 為獨立項，請求項
2 至7 為直接或間接依附於請求項1 之附屬項。系爭專利主
要圖式，如附圖1 所示。
1.系爭專利之獨立項：
請求項1 為一種鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底周
緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間，鍋底面上佈
設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋路，其於多數個凹槽
中設置不沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面。
2.系爭專利之附屬項：
分析系爭專利請求項2 至7 內容如後：⑴請求項2 如請求項
1 所述之鍋，其中鍋底與鍋邊交接處佈設多數個凹槽，多數
個凹槽之間形成細緻紋路，其於多數個凹槽中設置不沾黏層
。⑵請求項3 如請求項1 或2 所述之鍋，其中凹槽之深度尺
寸為0.06mm至0.3mm 之尺寸範圍。⑶請求項4 如請求項1 或
2 所述之鍋，其中凹槽之深度尺寸，為0.08mm至0.15mm之尺
寸範圍。⑷請求項5 如請求項1 或2 所述之鍋，其中鍋之周
面設置一把手。⑸請求項6 如請求項3 所述之鍋，其中鍋之
周面設置一把手。⑹請求項7 如請求項4 所述之鍋，其中鍋
之周面設置一把手。
三、專利有效性證據之技術分析：
(一)被證1之技術內容：
被證1 為1994年11月1 日公告之我國第233464號專利案，公
告日早於系爭專利申請日98年7 月2 日，可為系爭專利相關
之先前技術，被證1 之實施例立體圖，如附圖2 所示。被證
1 為一種鍋底之改良結構，尤指一種鍋子底部設有蜂巢式蒸
氣網之結構設計者；本創作主要係在鍋體部內面沖設形成有
蜂巢狀之凸紋網路，六角形蜂巢狀之凸紋網路內，形成有圓
凹部，以使鍋體受加熱時，能構成蒸氣網路而提昇不沾鍋之
特性，暨鍋體內面較不會受刮傷，延長鍋子之使用壽命；而
鍋體背面相對內面之圓凹部形成有圓凸部，以促使鍋體兼具
止滑效果，並有集中火源之高熱效率者。
(二)被證2之技術內容：
被證2 為1997年5 月14日公告之大陸地區第CN0000000 號專
利案，公告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先
前技術，被證2 結構示意圖，如附圖3 所示。被證2 為一種
帶有凹凸花紋底之不黏鍋，其包括鍋體，特徵在於鍋底表面
設有凹凸花紋不黏層，凹凸花紋可為網狀或直線條紋狀花紋
。
(三)被證3之技術內容：
被證3 為2001年12月21日公告之我國第469175號專利案，公
告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利之先前技術。其為
一種不沾鍋表面處理方法及鍋體結構，主要係使不沾鍋之鍋
體上方，依序形成一陽極處理層、一陶瓷層、一陶瓷鈦粉末
層及一鐵弗龍層等表面處理及層狀結構，藉此之設計，當不
沾鍋之鐵弗龍層縱使遭到刮除時，可利用具相當耐磨性之陶
瓷鈦粉末層，以輔助保持其鍋體之不沾性，達到不沾鍋長時
間使用下，亦不會失去不沾效果之目的。被證3 縱向剖面示
意圖，如附圖4 所示。
(四)被證4之技術內容：
被證4 為1999年11月1 日公告之我國第372866號專利案，公
告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先前技術。
被證4 為一種不沾鍋之製造方法，其於一沖壓成型之無碳鐵
板成型之鍋，表面塗佈有混合陶磁物層與鐵弗龍塗料層，塗
佈各層間均經由不同高溫及時間之磁化高溫處理，再配合附
著鐵弗龍層塗料之面混合陶磁物層形成凹凸面，而使得本發
明之不沾鍋表面，具有抵抗一般鍋鏟及鋼刷之強度，其所具
備之耐摩擦性及實用性，可確實達成一種方便使用者使用之
不沾鍋。被證4 製程圖，如附圖5 所示。
(五)被證5之技術內容：
被證5為2005年9月21日公告之我國第M275802號專利案，公
告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先前技術。
被證5為一種不沾鍋之鍋具構造，其包含一鍋體，鍋體內部
形成有一容室，鍋體於容室底部形成有一底面，且底面中央
形成有至少兩環呈斷續狀之弧凸肋，而底面於弧凸肋之外周
，呈放射狀設有複數個斷續狀之長凸肋，以供使用者在使用
鍋具時，使油能均勻擴散於鍋體之底面，而能增加鍋具之使
用效果。被證5 立體外觀圖，如附圖6 所示。
(六)被證6之技術內容：
被證6 為2007年4 月18日公告之大陸地區第CN0000000 號專
利案，公告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先
前技術。被證6 為一種硬質螺紋不鏽鋼不黏鍋，包括鍋體，
鍋體之內表面刻有螺紋，螺紋由鍋底中央以同心圓之結構向
鍋邊延伸，所述螺紋包括波峰、波谷及波面，波峰、波谷及
波面鍍有不黏塗層。被證6 不黏鍋之結構示意圖，如附圖7
所示
(七)被證7 之技術內容：
被證7 為1996年2 月20日公開之日本特開平第8-47457 號專
利案，公告日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先
前技術。被證7 為一種廚房用具及其製造方法，特徵在於鍋
底表面佈滿凸體及凹槽，且鍋底表面塗覆有不沾黏塗層。被
證7 結構示意圖，如附圖8所示。
(八)被上證1之技術內容：
被上證1 為2008年12月24日公告之大陸地區第CZ000000000
號專利案，公開日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關
之先前技術。被上證1 為一種鋁合金不黏鍋，包括鍋體與鍋
體表面之陽極氧化膜，其特徵在於陽極氧化膜之微孔填充有
疏水性物質。利用陽極氧化膜表面高硬度與多孔之特點，通
過在微孔內填充疏水性物質，使鍋體表面具有高硬度與不黏
性之雙重優點。被上證1 鍋底A 處結構示意圖，如附圖9 所
示。
(九)被上證2之技術內容：
被上證2為2005年9月11日公告之我國第M274904號專利，公
開日早於系爭專利申請日，可為系爭專利相關之先前技術。
被上證2 為一種烹飪鍋之改良結構，主要包含鍋身及把手，
其中鍋身之底部係呈向內微凹，其於底面設有環繞之鋸齒狀
螺
旋紋，使其鋸齒設為90°，底面與內鍋底面設有真空層，
而把手與鍋身之連接端則設有一導熱孔，使烹飪鍋於使用時
，藉由真空層內之熱傳導材料，使熱源迅速平均分佈於鍋底
，以縮短烹、炒時間並防止燒焦，而設於把手之導熱孔，以
防止火苗上竄直接燒及把手，使把手不會輕易受損。被上證
2 側視圖，如附圖10所示。
四、系爭專利請求項1至3、5至6不具進步性：
(一)被證1 至7 均不足證請求項1 不具進步性：
1.被證1無法證明請求項1不具進步性：
⑴被證1 揭示一種鍋底改良結構，由圖式第1 圖實施例立體圖
，可知被證1 揭露系爭專利請求項1 「一種鍋，其包含一體
成型之鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形
成一煮食空間，鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間
形成紋路」技術內容。
⑵被證1 說明書第4 頁倒數第2 行至第5 頁第4 行記載：其中
鍋體係塗佈有鐵弗龍，以具不沾渦之效用；而本創作之主要
結構特徵在於鍋體之底部作改良設計，其係以沖製方式，在
鍋體底部內面沖設形成有蜂巢狀之凸紋網路者，如圖二、圖
三所示。再者，六角形蜂巢狀之凸紋內形成圓凹部，是被證
1 先行塗佈鐵弗龍即不沾黏層，再沖製形成具凹凸狀鍋底，
即被證1 鍋底之凸紋網路與圓凹部均覆設有鐵弗龍，此與系
爭專利僅於凹槽中設置不沾黏層之技術不同；且被證1 鍋底
形成凹凸狀，亦與系爭專利「鍋底面形成平整之不沾鍋面」
技術特徵不同。
⑶
綜上所述，被證1 所應用技術手段與系爭專利明顯不同，且
未揭露系爭專利請求項1 所有技術特徵，被證1 利用沖製手
段，使平整鍋面形成具凹凸狀鍋底之技術，難以簡單變化而
成為與系爭專利相同之平整不沾鍋面，故系爭專利請求項1
之創作，非所屬技術領域中具有通常知識者，依被證1 揭露
技術所能輕易改變完成者。職是，被證1 不足以證明系爭專
利請求項1 不具進步性。
2.被證2無法證明請求項1不具進步性：
⑴被證2 揭示一種不黏鍋，由圖式第1 圖結構示意圖，可知被
證2 揭露系爭專利請求項1 「一種鍋，其包含一體成型之鍋
底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食
空間」技術內容。
⑵被證2 說明書第1 頁倒數第4 至6 行記載：一種帶有凹凸花
紋底之不黏鍋，其包括鍋體，其特徵在於在鍋底表面設有凹
凸花紋不黏層，花紋是網狀或直線條紋狀花紋。可知被證2
鍋底表面形成凹凸花紋底的技術，並不等同於系爭專利鍋底
面形成平整之不沾鍋面之技術，且被證2 僅揭露在鍋底表面
設凹凸花紋不黏層，此與系爭專利於多數個凹槽中設置不沾
黏層之技術，亦有不同。
⑶綜上所述，被證2 所應用技術手段與系爭專利明顯不同，且
未揭露系爭專利請求項1 所有技術特徵，被證2 單純將不黏
層設於鍋底表面，以形成凹凸花紋之技術，難以簡單變化而
成為系爭專利使用凹槽中設不沾黏層，以形成平整之不沾鍋
面之技術，故系爭專利請求項1 之創作，非所屬技術領域中
具有通常知識者，依被證2 揭露技術所能輕易改變完成者。
準此，被證2不足以證明系爭專利請求項1不具進步性。
3.被證3無法證明請求項1不具進步性：
被證3 揭示一種不沾鍋表面處理方法及鍋體結構，說明書第
4 頁第5 至14行記載：主要將鋁鍋之鍋體內弧表面，形成多
數個直徑約0.3 至1.6mm ，深度約80至100 μm 之不規則狀
表面凸凹處理，並在凹凸處理之鍋體表面，再均勻附著厚度
約20至50μm 氧化鋁皮膜之陽極處理層，再於鍋體之陽極處
理層表面，利用陶瓷以160 至220 ℃之高溫噴塗之方式形成
一陶瓷層，再於陶瓷層之表面，同樣以高溫噴塗陶瓷及氧化
鈦粉末混合而成之陶瓷鈦粉末層，並以粉末噴佈之方式使其
表面更為細緻化，最後再將陶瓷鈦粉末層之表面，以鐵弗龍
樹脂均佈噴曬形成鐵弗龍處理層。職是，被證3 主要係於鍋
底表面以層層疊覆之方式，形成不沾鍋之技術，被證3 不僅
未揭露系爭專利請求項1 於多數個凹槽，設置不沾黏層之相
關技術特徵，且應用之技術手段明顯與系爭專利具有極大差
異，故被證3 不足以證明系爭專利請求項1 不具進步性。
4.被證4無法證明請求項1不具進步性：
被證4 揭示一種不沾鍋之製造方法，說明書第3 頁第16至23
行記載：將半成品鍋體再以磁化高溫處理加溫至900 ℃，並
經20分鐘冷卻，使混合陶磁物層緊密結合於無碳鐵板，以氣
壓撞擊模衝撞鍋體之內側面，使內部混合陶磁物層之表面，
形成不規則狀之凹凸面，經水洗淨脫脂及烘乾處理後，再將
鐵弗龍塗料塗佈於凹凸面約12至15μ之厚度，經加溫至40 0
℃，並經35分鐘高溫烘烤流程後，鍋體之內部表面附著一鐵
弗龍層。可知被證4 主要係於鍋底表面先覆上陶磁物層，並
形成凹凸表面，再全面塗覆一層鐵弗龍層，以形成不沾鍋之
技術。被證4 之鐵弗龍層係全面塗覆於鍋底，是被證4 仍未
揭露系爭專利請求項1 於多數個凹槽，設置不沾黏層之相關
技術特徵，且應用之技術手段與系爭專利間有明顯差異，故
被證4 不足以證明系爭專利請求項1 不具進步性。
5.被證5無法證明請求項1不具進步性：
被證5 揭示一種不沾鍋之鍋具構造，說明書第5 頁第12至16
行記載：底面中央設有兩呈同心圓狀之弧凸肋，且兩弧凸肋
係分別呈斷續狀設置，而底面於兩弧凸肋之外側，其呈放射
狀，設有複數道之長凸肋，且各長凸肋分別呈斷續狀設置；
藉由上述之結構，以完成本創作不沾鍋之鍋具構造。可知被
證5 主要藉由凸肋結構，達到不沾鍋之效果，未有系爭專利
不沾黏層之技術特徵。是被證5 仍未揭露系爭專利請求項1
於多數個凹槽，設置不沾黏層之相關技術特徵，且應用之技
術手段明顯與系爭專利具有差異，故被證5 不足以證明系爭
專利請求項1 不具進步性。
6.被證6無法證明請求項1不具進步性：
⑴被證6 揭示一種硬質螺紋不鏽鋼不黏鍋，由圖式第1 、2 圖
結構示意圖，可知被證6 揭露系爭專利請求項1 「一種鍋，
其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，
而在其中形成一煮食空間」技術內容。
⑵被證6 說明書第3 頁第11至14行記載：所述硬質螺紋不鏽鋼
不黏鍋，包括鍋體，鍋體之內表刻有螺紋，螺紋由鍋底中央
以同心圓之結構向鍋邊延伸，所述螺紋包括波峰、波谷及波
面，在波峰、波谷及波面之上面鍍有不沾黏層。是被證6係
於鍋底全面塗覆不沾黏層，此與系爭專利僅於凹槽中設置不
沾黏層之技術即有不同；且被證6 鍋底形成凹凸狀，亦與系
爭專利「鍋底面形成平整之不沾鍋面」技術特徵不同。
⑶綜上所述，被證6 所應用技術手段與系爭專利明顯不同，且
未揭露系爭專利請求項1 所有技術特徵，被證6 利用鍋底內
表面刻畫螺紋，再全面鍍設不沾黏層，形成具凹凸狀鍋底之
技術，難以簡單變化，而成為具有系爭專利紋路與不沾黏層
形成平整之不沾鍋面技術特徵之創作，故系爭專利請求項1
之創作，非所屬技術領域中具有通常知識者，依被證6 揭露
技術所能輕易改變完成者。職是，被證6 不足以證明系爭專
利請求項1不具進步性。
7.被證7無法證明請求項1不具進步性：
⑴被證7 揭示一種廚房用具及其製造方法，由圖式第2 、3 圖
，可知被證7 揭露系爭專利請求項1 「一種鍋，其包含一體
成型之鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形
成一煮食空間」技術內容。
⑵被證7 圖式第1 至4 圖，揭露利用電工放電之方式形成壓鑄
模具，再以模具壓鑄一鋁板，以形成表面佈滿凸體及凹槽之
鍋具，最後再於鍋底之凸體及凹槽，全面塗覆不沾黏塗層。
是被證7 於鍋底全面塗覆不沾黏層，此與系爭專利僅於凹槽
，設置不沾黏層之技術即有不同；且被證6 鍋底係形成凹凸
狀，亦與系爭專利「鍋底面形成平整之不沾鍋面」技術特徵
不同。
⑶綜上所述，被證7 所應用技術手段與系爭專利明顯不同，且
未揭露系爭專利請求項1 所有技術特徵，被證7 以壓鑄方式
於鍋底內表面形成凸體及凹槽之分佈，再全面塗覆不沾黏層
形成具凹凸狀鍋底之技術，難以簡單變化，而成為具有系爭
專利紋路與不沾黏層形成平整之不沾鍋面技術特徵之創作，
故系爭專利請求項1之創作，非所屬技術領域中具有通常知
識者，依被證7 揭露技術所能輕易改變完成者。準此，被證
7不足以證明系爭專利請求項1不具進步性。
(二)被證2與5 至7均不足證請求項2不具進步性：
系爭專利請求項2 為依附於請求項1 之附屬項，解釋時應包
含請求項1之全部技術特徵。因被證2、5、6或7均不足以證
明系爭專利請求項1 不具進步性，當然亦不足以證明依附於
請求項1之請求項2 不具進步性。
(三)被證3不足證請求項3不具進步性：
系爭專利請求項3 為依附於請求項1 或2 之附屬項，解釋時
應包含請求項1 或2 之全部技術特徵。因被證3 不足以證明
系爭專利請求項1 不具進步性，當然亦不足以證明依附於請
求項1或2 之請求項3 不具進步性。
(四)組合被證1與2或組合被證2與5不足證請求項5不具進步性：
系爭專利請求項5 為依附於請求項1 或2 之附屬項，解釋時
應包含請求項1 或2 之全部技術特徵。被證1 、2 、5 均未
揭露系爭專利請求項1 「凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形
成平整之不沾鍋面」技術特徵。縱使組合被證1 、2 或組合
被證2 、5 ，仍未揭露系爭專利該等技術特徵。再者，被證
1 、2 、5 所實施之技術手段各不相同，亦與系爭專利有明
顯差異，該所屬技術領域中具有通常知識者，難參酌被證1
、2 或被證2 、5 所揭露技術，而能輕易達成系爭專利之創
作，故被證1 、2 之組合或被證2 、5 之組合，均不足以證
明系爭專利請求項5 不具進步性。
(五)組合被證1與2或組合被證2與5不足證請求項6不具進步性：
系爭專利請求項6 為依附於請求項3 之附屬項，而請求項3
依附於請求項1 或2 ，故請求項6 係間接依附於請求項1 ，
解釋時應包含被依附請求項之全部技術特徵。被證1 、2 、
5 均未揭露系爭專利請求項1 「凹槽中設置不沾黏層，使鍋
底面形成平整之不沾鍋面」技術特徵。縱使組合被證1 、2
或組合被證2 、5 ，仍未揭露系爭專利該等技術特徵。再者
，被證1 、2 、5 所實施之技術手段各不相同，亦與系爭專
利有明顯差異，該所屬技術領域中具有通常知識者，難參酌
被證1 、2 或被證2 、5 所揭露技術，而能輕易達成系爭專
利之創作，故被證1 、2 之組合或被證2 、5 之組合，均不
足以證明系爭專利請求項6 不具進步性。
(六)被上證1可證請求項1至3不具進步性：
1.被上證1可證明系爭專利請求項1不具進步性：
⑴被上證1 為一種鋁合金不黏鍋，說明書第4 頁第18至19行記
載：本實用新型之製備方法，將鋁片拉伸成鍋，配合圖式第
1 圖。說明書第3 頁第3 行亦記載：本實用新型涉及家庭廚
房用炊具。可知被上證1 將鋁片拉伸成炊具用鍋之技術，相
當於系爭專利一體成型鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋
邊之技術。準此，被上證1 揭露系爭專利請求項1 「一種鍋
，其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊
，而在其中形成一煮食空間」技術特徵。
⑵被上證1 說明書第3 頁第19至20行記載：鋁合金陽極氧化物
理不黏鍋，鍋體之內表面，呈凹凸不平之鋸齒狀或蜂窩狀，
增加填充處之表面積與填充數量。再配合圖式第2 圖，可知
被上證1 之凹凸不平之鋸齒狀態樣，相當於系爭專利鍋底面
之凹槽及凹槽間紋路之技術。準此，被上證1 揭露系爭專利
請求項1 「鍋底面佈設多數個凹槽，多數個凹槽間形成紋路
」技術特徵。
⑶被上證1 說明書第4 頁第14至15行記載：鍋體之內、外表面
分別形成陽極氧化膜，其在微觀下呈現多個微孔狀，微孔內
填充有疏水性物質。再配合圖式第2 圖，可知被上證1 於凹
凸不平之鋸齒中填充疏水性物質，而形成平整鍋底面之技術
，類似於系爭專利於凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形成平
整之不沾鍋面之技術，故被上證1 實質揭露系爭專利「多數
個凹槽中設置不沾黏層，使鍋底面形成平整之不沾鍋面」。
⑷綜上所述，被上證1 實質揭露系爭專利請求項1 之技術內容
，構造之些微差異，僅該創作所屬技術領域中具有通常知識
者，參酌被上證1 所揭露技術或依其教示，而能簡單改變以
完成系爭專利請求項1 之創作。職是，被上證1 可證明系爭
專利請求項1 不具進步性。
2.被上證1可證明系爭專利請求項2不具進步性：
系爭專利請求項2 為依附於請求項1 之附屬項，附屬技術特
徵為「其中鍋底與鍋邊交接處佈設多數個凹槽，多數個凹槽
之間形成細緻紋路，其於數個凹槽中設置不沾黏層」。查請
求項2 之附屬技術特徵，僅係請求項1 技術特徵於不同位置
之應用，該創作所屬技術領域中具有通常知識者，既能依被
上證1 揭示技術而簡單完成系爭專利請求項1 之創作，則於
鍋底與鍋邊交接處實施鍋底面之相同技術，自非難事。準此
，系爭專利請求項2 之技術，亦為所屬技術領中具有通常知
識者，所能輕易完成者，故被上證1 可證明系爭專利請求項
2 不具進步性。
3.被上證1可證明系爭專利請求項3不具進步性：
系爭專利請求項3 為依附於請求項1 或2 之附屬項，附屬技
術特徵「其中凹槽之深度尺寸為0.06mm至0.3mm 尺寸範圍」
。查被上證1 雖未具體揭露鍋體內表面凹凸不平鋸齒狀之深
度尺寸，惟其僅係單純尺寸大小之限定，且依通常所知，鍋
底厚度不會太厚，因有礙燃燒烹煮效率，故凹槽深度自然受
限。再者，凹槽深度均填滿不沾黏層，是深度並不具有實質
技術意涵，且不沾黏層具有食物不沾黏之效果，主要僅在於
不沾黏層表面。準此，該創作所屬技術領域中具有通常知識
者，自能簡單變化而輕易達成系爭專利請求項3之創作，故
被上證1可證明系爭專利請求項3不具進步性。
4.被上證1揭露系爭專利請求項1至3之技術特徵：
上訴人雖主張被上證1 與系爭專利有如後不同：⑴兩者之鍋
底結構不同；⑵兩者達到不沾黏效果之方法不同；⑶兩者達
到抵抗金屬鏟刮損之方法不同云云。然查：
⑴上訴人固主張被上證1係在鍋底表面披覆陽極氧化膜，再使
陽極氧化膜吸附疏水性物質，使疏水性物質填充進入陽極氧
化膜內部之微孔。而系爭專利鍋底結構，並無陽極氧化膜，
而是直接在鍋底表面沖設出紋路，紋路間形成凹槽，再以不
沾黏層，將各凹槽填平，兩者技術手段完全不同云云。惟系
爭專利為物之請求項，且請求項中並無前述製備方法之記載
，其稱技術手段不同，即非可採。再者，是否具專利要件之
判斷，應以證據是否揭露系爭專利技術特徵為比對基礎，
而
非以系爭專利不具證據之某項技術特徵為比對要件，故上訴
人稱系爭專利鍋底結構，並無陽極氧化膜而與被上證1 技術
手段不同，不足為憑。
參諸被上證1揭露或教示將疏水性物
質填入於鍋體內表面中凹凸不平之鋸齒狀，且使鍋體內表面
整體呈現平整態樣之技術，即與系爭專利將不沾黏層設置於
凹槽，使鍋底面形成平整之不沾鍋面之技術相當。準此，上
訴人主張兩者鍋底結構不同云云，
尚非可採。
⑵上訴人雖主張被上證1 疏水性物質之功用，並非直接接觸在
鍋具中烹煮之食物，疏水性物質之功用在於進入陽極氧化膜
之微孔，造成水等液體不易進入陽極氧化膜之微孔，而使陽
極氧化膜變成具有不沾黏之特性。相較系爭專利
是以不沾黏
層填平鍋底表面，使食物直接接觸不沾黏層，相當於疏水性
物質，達到不沾黏之效果，兩者技術手段明顯不同云云。然
被上證1 將疏水性物質填入陽極氧化膜，而與陽極氧化膜共
同形成具有不沾黏之構成，其與系爭專利直接以不沾黏層填
入凹槽，使食物達到不沾黏之構成略有不同，而陽極氧化膜
本身不具防止沾黏之作用，鍋底不沾黏之特性，主要係因疏
水性物質之效果。準此，系爭專利以不沾黏層填平鍋底表面
，達到不沾黏之效果，其與被上證1 將疏水性物質填入於鍋
體內表面凹凸不平之鋸齒狀內，使形成不沾黏鍋底之效果，
並無實質差異，故上訴人關於兩者達到不沾黏效果之方法不
同云云，不足為憑。
⑶上訴人固主張被上證1 利用陽極氧化膜本身之表面高硬度，
抵抗金屬鏟刮損陽極氧化膜。而系爭專利利用在鍋體本身蝕
刻出紋路，以不鏽鋼材質紋路抵抗金屬鏟刮損不沾黏層云云
。惟系爭專利請求項無「不鏽鋼材質」記載，且系爭專利「
平整之不沾鍋面」藉由紋路與不沾黏層交互排列之設計，具
有較習知鍋底全面塗覆不沾黏層、具有較佳之抗刮損效果，
進而延長使用壽命，其不表示紋路可完全抵抗金屬鏟刮損不
沾黏層。而被上證1 於鍋底全面塗覆陽極氧化膜，再將位於
凹凸不平鋸齒狀，填入具有疏水性物質而成平整鍋面，構件
間之相對關係，其與系爭專利凹槽中設置不沾黏層，並與紋
路交錯排列而成平整鍋面之相對關係一致。準此，被上證1
即具有抵抗金屬鍋鏟刮損疏水性物質之功能，此與系爭專利
不沾黏層抗金屬鏟刮損之目的一致，上訴人稱兩者達到抵抗
金屬鏟刮損之方法不同云云，尚非可採。
⑷上訴人雖主張被上證1 陽極氧化膜之微孔孔徑為10至50奈米
，其與系爭專利凹槽孔徑差異極大，並以模擬方式繪製比較
圖，被上證1 技術與系爭專利技術並不相同云云。惟系爭專
利請求項1 未界定凹槽孔徑之大小，上訴人據此而認定被上
證1 與系爭專利具有差異，即有未洽。再者，系爭專利請求
項1 主要技術特徵在於鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹
槽之間形成紋路，其於多數個凹槽中設置不沾黏層，使鍋底
面形成平整之不沾鍋面。而被上證1 揭露鋁合金陽極氧化物
理不黏鍋，鍋體之內表面呈凹凸不平鋸齒狀或蜂窩狀微孔，
其於微孔內填充有疏水性物質之技術，相當於系爭專利於鍋
底凹槽中設置不沾黏層之技術。準此，系爭專利「鍋」之兩
大功能：①利用紋路抗磨損；②利用不沾黏層使鍋具不沾黏
食物之效果。均見於被上證1 利用陽極氧化膜之高硬性抗磨
損與利用疏水性物質使鍋具不沾黏。是被上證1 不僅揭露系
爭專利請求項1 之技術特徵，且能達成系爭專利所具有之功
效。
⑸至上訴人主張：填入疏水性物質之陽極氧化膜會產生化學變
化，使陽極氧化膜同時具有抗磨損與不沾黏之特性，疏水性
物質不與食物直接接觸云云。查被上證1 說明書中未有陽極
氧化膜會與疏水性物質產生化學變化之記載，且依說明書記
載，陽極氧化膜之鍋在使用時，極易沾黏食物或菜餚，是陽
極氧化膜本身不具有不沾黏之特性，而是疏水性物質使其具
有不沾黏之效果。職是，足認上訴人
上開主張，
難謂可採。
(七)組合被上證1與2可證請求項5至6不具進步性：
系爭專利請求項5 為依附於請求項1 或2 之附屬項，附屬技
術特徵「其中鍋之周面設置一把手」。查被上證1雖未具體
揭露鍋之周面設有把手之技術特徵，惟鍋具通常伴隨有把手
，乃公知且習用技術，如被上證2 即揭露具有把手之鍋。而
被上證1 可證明系爭專利請求項1 、2 不具進步性，故被上
證1 、2 組合可證明系爭專利請求項5 不具進步性。再者，
系爭專利請求項6 為依附於請求項3 之附屬項，附屬技術特
徵「其中鍋之周面設置一把手」。查被上證1固未具體揭露
鍋之周面設有把手之技術特徵，然鍋具通常伴隨有把手，乃
公知與習用技術，如被上證2 即揭露具有把手之鍋。因被上
證1 可證明系爭專利請求項3 不具進步性。準此，被上證1
、2組合可證明系爭專利請求項6 不具進步性。
五、系爭產品未落入請求項1至3、5至6之均等範圍：
(一)系爭產品技術特徵：
系爭產品為一種不沾鍋，其包含一體成型之鍋底及環繞於鍋
底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間；鍋底面
佈設多數凹槽，多數凹槽間形成鍋底紋路，並於凹槽內設不
沾黏層，紋路與凹槽不沾黏層間具有0.125mm 之差異深度，
而形成不平整之鍋面（參照本院整理當事人不爭執事項1）
。
(二)系爭產品可讀取系爭專利請求項1要件A至C 之文義：
系爭專利請求項1 可解析為4 個要件，分別為A 至D ：要件
A 要件為一種鍋；要件B 包含一體成型之鍋底及環繞於鍋底
周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間；要件C為
鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋路，其於
多數個凹槽中設置不沾黏層；要件D 為使鍋底面形成平整之
不沾鍋面。系爭產品技術特徵可解析為4 個要件，分別為a
至d： 要件a 為一種鍋；要件b 為包含一體成型之鍋底及環
繞於鍋底周緣向上彎折之鍋邊，而在其中形成一煮食空間；
要件c 為鍋底面上佈設多數個凹槽，多數個凹槽之間形成紋
路，其於凹槽中設置不沾黏層；要件d 為鍋底面形成粗糙之
不沾鍋面。系爭產品雖可讀取系爭專利請求項1 要件A 、B
、C 之文義，惟系爭產品無法讀取系爭專利要件D 「使鍋底
面形成平整之不沾鍋面」文義（參照本院整理當事人不爭執
事項2 至3 ）。職是，本院運用均等論原則，就系爭專利要
件D與 系爭產品要件d 進行比對與分析，以認定系爭產品是
否落入系爭專利請求項1 至3 、5 至6 ，如附表所示系爭產
品與系爭專利請求項1 之均等比對分析表（參照本院整理
當事人爭執事項2 ）。
1.系爭產品未落入系爭專利請求項1之均等範圍：
⑴系爭產品於凹槽中設置不沾黏層之技術。其與系爭專利於凹
槽中設置不沾黏層之技術，兩者相同，兩者雖有不沾黏層與
紋路是否形成差異深度之差別，惟此僅係不沾黏層填充量之
差異，為所屬技術領域中具有通常知識者，所能輕易完成之
改變。職是，系爭產品與系爭專利請求項1 要件D 所實施技
術手段為實質相同。
⑵系爭產品因鍋底面不平整，致使食物無法完全平貼於鍋面；
反之，系爭專利鍋底面形成平整，而使食物可平貼於鍋面。
準此，兩者所達成之功能，實質不相同。
⑶系爭產品因鍋底面不平整，以致食物無法完全平貼於鍋面，
其於煮食時將無法平均受熱；反之，系爭專利鍋底面係形成
平整，可令食物完全平貼於鍋面，使食物煮食時，得平均受
熱。職是，兩者所產生之結果，實質不相同。
⑷綜上所述，系爭產品與系爭專利請求項1 要件D ，雖利用實
質相同之技術手段，惟所達成之功能與產生之結果，均不相
同，不適用均等論原則，故系爭產品未落入系爭專利請求項
1 之均等範圍。
⑸上訴人雖主張系爭產品之不沾黏層與紋路頂面未完全齊平，
凹槽略有深度，凹槽之深度極淺，由於食物之重量與彈性，
系爭產品於煮食時，仍具有使食物平貼於不沾黏層，並避免
烹煮用之沙拉油，進入各凹槽之量不均之功能云云。然系爭
產品鍋底凹槽既略有深度，並略呈凹凸狀，則食物無法平
貼於鍋底。倘食物之重量及彈性使食物可凹陷入凹槽，則食
物整體必然呈現部分平貼與部分凹陷，此狀況即非系爭專利
所稱之食物能平貼於不沾鍋面。況縱使食物之重量與彈性，
使食物可凹陷入凹槽內，亦無法保證陷入凹槽內之部分，可
必然平貼於整個凹槽。再者，凹槽均佈於鍋底，除非沙拉油
鋪滿鍋底，否則沙拉油進入各凹槽之量必然不均。準此，上
訴人所稱系爭產品與系爭專利具有實質相同之功能云云，實
非可採。
⑹上訴人固主張系爭產品之不沾黏層與紋路頂面未完全齊平，
凹槽略有深度，而凹槽之深度極淺，故以軟質食物之重量與
彈性，得陷入凹槽中，而平貼於不沾黏層，系爭產品於煮食
時，仍具有使食物平貼於不沾黏層，並避免烹煮用之沙拉油
進入各凹槽之量不均，達到平均受熱煮食之結果云云。惟系
爭產品鍋底凹槽略有深度，而使鍋底略呈凹凸狀，致食物無
法平貼於鍋底。其於煮食時，食物無法達到平均受熱之結果
。職是，上訴人所稱系爭產品與系爭專利具有實質相同之功
能，不足為憑。
⑺上訴人雖主張系爭產品為圓弧形鍋體之炒菜鍋，其於侵權分
析比對時，系爭專利亦應用相同是圓弧形之炒菜鍋，加以比
較云云。然侵權比對分析，應以系爭專利請求項為主體，論
究系爭產品是否落入系爭專利請求項之文義或均等範圍，系
爭專利請求項既未限定鍋底形狀，上訴人不得增加請求項之
技術特徵作為與系爭產品比對之基礎。準此，上訴人主張，
實不足採。
⑻上訴人固主張被上訴人將系爭產品製作成形式與系爭專利有
差異，企圖脫免侵權責任，以極淺之凹槽深度，造成形式平
整、不平整之差異云云。惟系爭產品之不平整鍋面與系爭專
利之平整鍋面，具有實質之差異，致系爭產品未落入系爭專
利之均等範圍。準此，兩者非僅有形式差異。再者，一般炒
菜鍋之厚度並非很厚，其於鍋底形成凹槽，再填入不沾黏層
後，凹槽之差異深度本即有限。職是，
本案重點應在凹槽是
否填滿不沾黏層，而形成平整鍋面；或凹槽未填滿不沾黏層
，而形成不平整鍋面。並非爭執鍋面是否為極淺之深度，上
訴人稱系爭產品與系爭專利僅係形式之差異，即非可採。
2.系爭產品未落入系爭專利請求項2、3、5及6之均等範圍：
系爭專利請求項2 、3 、5 及6 係直接或間接依附於請求項
1之附屬項，技術內容包括請求項1 之所有技術內容，並加
以限定。系爭產品未落入系爭專利請求項1 之均等範圍，自
亦未落入系爭專利請求項2、3、5及6 之均等範圍。
六、本判決結論：
綜上所述，雖被證1 至7 均不足證請求項1 不具進步性；被
證2 、5 至7 均不足證請求項2 不具進步性；被證3 不足證
請求項3 不具進步性；組合被證1 與2 或組合被證2 與5 均
不足證請求項5 不具進步性；組合被證1 與2 或組合被證2
與5 均不足證請求項6 不具進步性。惟被上證1 可證請求項
1 至3 不具進步性；組合被上證1 與2 可證請求項5 至6 不
具進步性。且系爭產品未落入系爭專利請求項1 至3 、5 至
6 之均等範圍。故上訴人主張原判決廢棄；被上訴人應給付
上訴人100 萬元，並自起訴狀繕本送達之翌日起至清償日止
，按年息5%計算之利息；被上訴人不得自行或使第三人直接
或間接為製造、販賣之要約、販賣、使用或為上述目的而進
口系爭產品，亦不得為其他一切侵害系爭專利之行為。被上
訴人流通至市面之系爭產品，應全部回收；暨願供擔保請准
宣告假執行。
即屬無據，應予駁回。原審為上訴人敗訴，並
駁回假執行
聲請之判決，
核無不合。準此，
上訴意旨指摘原
判決不當，求予廢棄改判，為無理由，應駁回其上訴。
七、
無庸論述之說明：
本件為判決之基礎
已臻明確，上訴人雖請求本院命被上訴人
提出系爭產品之銷售資料，作為請求損害賠償之計算。惟被
上訴人之系爭產品未落入系爭專利請求項1 至3 、5 至6 之
均等範圍，既如前述，上訴人不得向被上訴人請求損害賠償
，被上訴人自無提出系爭產品銷售資料之必要。暨兩造其餘
爭點、陳述及所提之其他證據，經本院斟酌後，認為均於判
決之結果不生影響，自毋庸逐一論述，併此敘明。
據上論結，本件上訴為無理由，依智慧財產案件審理法第1 條，
民事訴訟法第449 條第1 項、第78條，判決如主文。
中 華 民 國 104 年 9 月 17 日
智慧財產法院第一庭
審判長法 官 陳忠行
法 官 李維心
法 官 林洲富
以上
正本係照原本作成。
如不服本判決，應於收受送達後20日內向本院提出上訴書狀，其
未表明上訴理由者，應於提出上訴後20日內向本院補提理由書狀
(均須按他造當事人之人數附繕本) ，上訴時應提出委任律師或
具有律師資格之人之
委任狀；委任有律師資格者，應另附具律師
資格證書及釋明
委任人與
受任人有民事訴訟法第466 條之1 第1
項但書或第2 項( 詳附註) 所定關係之釋明文書影本。如委任律
師提起上訴者，應一併繳納上訴審裁判費。
中 華 民 國 104 年 9 月 17 日
書記官 蔡文揚
附註：
民事訴訟法第466條之1(第1項、第2項)
對於第二審判決上訴，上訴人應委任律師為訴訟代理人。但上訴
人或其法定代理人具有律師資格者，不在此限。
上訴人之配偶、三親等內之血親、二親等內之姻親，或上訴人為
法人、中央或地方機關時，其所屬專任人員具有律師資格並經法
院認為適當者，亦得為第三審訴訟代理人。