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臺中高等行政法院判決 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 103年度訴字第81號 　　　　　　　　　　　　　　　　　　 103年6月5日辯論終結 原　　　告　台灣菱興電子材料股份有限公司 代　表　人　福井　一 訴訟代理人　甘龍強　律師 被　　　告　臺中市政府 代　表　人　胡志強 訴訟代理人　張世昌 　　　　　　林鉦能 上列當事人間因土壤及地下水污染整治法事件，原告不服行政院 環境保護署中華民國102年12月20日環署訴字第1020079099號訴 願決定，提起行政訴訟，本院判決如下︰ 　　主 文 原告之訴駁回。 訴訟費用由原告負擔。 事實及理由 一、事實概要： 原告在經濟部臺中加工出口區內臺中市○○區○區段○○○○ 號土地（下稱系爭場址，地址為臺中市○○區○○路○○○○ 號，位置或座標詳如本院卷第56頁之航照套繪圖）設廠從事 電子零組件製造業，為系爭場址之土地使用人，前經行政院 環境保護署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 （第二期）」調查工作，於民國（下同）101年9月10日至同 年10月20日期間派員前往系爭場址標準監測井（B00148、B0 0149）進行地下水採樣工作，樣品經檢測結果三氯乙烯（TC E）最高為0.104mg/L、四氯乙烯（PCE）最高為0.178mg/L， 均超出地下水污染管制標準所定限值（三氯乙烯0.05mg/L、 四氯乙烯0.05mg/L），案經被告認定該污染物非自然環境存 在，且系爭場址地下水污染來源明確，爰依土壤及地下水污 染整治法第12條第2項規定，以102年7月16日府授環水字第 1020122150號公告（下稱原處分）系爭場址為地下水污染控 制場址，並經被告所屬環境保護局以102年7月31日中市環水 字第1020076383號函檢送該公告影本予原告。原告不服，提 起訴願，並主張：依最高行政法院101年度判字第548號判決 及行政院環境保護署92年3月5日00 00000000號函之意旨， 必須地下水污染來源明確且地下水污染物濃度達地下水污染 管制標準者，始得公告為地下水污染控制場址。被告並未查 明地下水污染之來源，即將該土地公告為地下水污染控制場 址，自屬違誤。縱使地下水檢測結果，三氯乙烯與四氯乙烯 濃度均超過第2類地下水污染管制標準屬實，惟原告在該土 地上之工廠，其生產製程並未使用含有或可能釋出三氯乙烯 或四氯乙烯之化學物品，被告既未查明污染來源，即公告為 控制場址即有違誤云云，惟遭訴願駁回，遂提起本件行政訴 訟。 二、本件原告主張： （一）按土壤及地下水污染整治法第2條第17款規定：「本法用 詞，定義如下：……十七、污染控制場址：指土壤污染或 地下水污染來源明確之場址，其污染物非自然環境存在經 沖刷、流布、沉積、引灌，致該污染物達土壤或地下水污 染管制標準者。」第12條第1項規定：「各級主管機關對 於有土壤或地下水污染之虞之場址，應即進行查證，並依 相關環境保護法規管制污染源及調查環境污染情形。」第 2項規定：「前項場址之土壤污染或地下水污染來源明確 ，其土壤或地下水污染物濃度達土壤或地下水污染管制標 準者，直轄市、縣（市）主管機關應公告為土壤、地下水 污染控制場址（以下簡稱控制場址）。」第9項規定：「 污染物係自然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌致場址 之污染物濃度達第2項規定情形者，直轄市、縣（市）主 管機關應將檢測結果通知相關目的事業主管機關，並召開 協商會議，辦理相關事宜。必要時，並得準用第15條規定 。」土壤及地下水污染整治法施行細則第8條規定：「本 法第12條第2項所稱地下水污染來源明確，指依查證、調 查結果及資料，可判斷或確認造成地下水污染之物質或位 置等資訊。」又同法第27條規定：「各級主管機關依第12 條第1項規定進行場址查證時，如場址地下水污染濃度達 地下水污染管制標準，而污染來源不明確者，直轄市、縣 （市）主管機關應公告劃定地下水受污染使用限制地區及 限制事項，依第15條規定採取應變必要措施，並準用第25 條規定辦理。前項場址，經直轄市、縣（市）主管機關初 步評估後，有嚴重危害國民健康及生活環境之虞時，準用 整治場址依第14條、第15條、第22條至第26條規定辦理。 」依上揭規定，各級主管機關對於有地下水污染之虞之場 址進行查證，如查證結果，場址地下水污染濃度達地下水 污染管制標準者，應分別下列3種情形，而異其處理：1. 污染來源不明確者，依該法第27條之規定，由主管機關公 告劃定地下水受污染使用限制地區及限制事項，依第15條 規定採取應變必要措施，並準用第25條規定辦理；2.如污 染物係自然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌致場址地 下水污染濃度達地下水污染管制標準者，主管機關應將檢 測結果通知相關目的事業主管機關，並召開協商會議，辦 理相關事宜，必要時，並得準用第15條規定辦理；3.如場 址之地下水污染來源明確者，主管機關應將將該場址公告 為地下水污染控制場址。最高行政法院101年度判字第548 號判決載明：「觀諸上揭土壤及地下水污染整治法第2條 第17款、第12條第1項、第2項、第9項、第27條之規定可 知，各級主管機關對於有地下水污染之虞之場址進行查證 結果，如場址地下水污染濃度達地下水污染管制標準，而 污染來源不明確者，依該法第27條之規定，主管機關應公 告劃定地下水受污染使用限制地區及限制事項，依第15條 規定採取應變必要措施，並準用第25條規定辦理；如場址 地下水污染濃度達地下水污染管制標準，而污染來源明確 者，惟污染物係自然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌 致場址之污染物濃度達第2項規定情形者，主管機關應將 檢測結果通知相關目的事業主管機關，並召開協商會議， 辦理相關事宜，必要時，並得準用第15條規定辦理；僅於 場址之地下水污染來源明確，且其地下水污染物濃度達地 下水污染管制標準者，主管機關始得將該場址公告為地下 水污染控制場址。」可供參照。最高行政法院101年度判 字第548號判決並申論：「……揆諸前述說明，亦知土壤 及地下水污染整治法施行細則第8條規定所稱：『指依查 證、調查結果及資料，可判斷或確認造成地下水污染之物 質或位置等資訊。』等語，自非指場址內確有污染之物質 或該污染之物質其位置已屬明確而言，其應係指該污染之 物質係從何而來，亦即已有確實之資訊可判斷或確認造成 污染之根源，否則土壤及地下水污染整治法第12條第2項 僅須規定場址之地下水污染物濃度達地下水污染管制標準 者，主管機關即得公告為控制場址，而地下水污染來源明 確之規定將成為贅文，無適用之餘地。」最高行政法院10 1年度判字第548號判決並說明土壤污染控制場址與地下水 污染控制場址之區別：「然依土壤及地下水污染整治法第 2條第1款、第2款、第4款、第5款之規定：『一、土壤： 指陸上生物生長或生活之地殼岩石表面之疏鬆天然介質。 二、地下水：指流動或停滯於地面以下之水。三、……。 四、土壤污染：指土壤因物質、生物或能量之介入，致變 更品質，有影響其正常用途或危害國民健康及生活環境之 虞。五、地下水污染：指地下水因物質、生物或能量之介 入，致變更品質，有影響其正常用途或危害國民健康及生 活環境之虞。』地下水有可能停滯也有可能是流動的狀態 ，其污染之來源如不能明確認定，即無法將污染有效的加 予控制及整治，此與土壤之污染源固定不同，故同條第17 款之規定即應認為立法者有意加以區別。」此外，行政院 環境保護署92年3月5日環署土字第0920015975號函，亦釋 示：依土壤及地下水污染整治法第11條第2項規定：「前 項場址之土壤污染或地下水污染來源明確，其土壤或地下 水污染物濃度達土壤或地下水污染管制標準者，所在地主 管機關應公告為土壤、地下水污染控制場址；……」亦即 須地下水污染來源明確且地下水污染物濃度達地下水污染 管制標準者，始得公告為控制場址。今本案若尚未查證確 認係屬污染來源明確，自不宜公告為控制場址並要求加油 站提出污染控制計畫。本件原告使用之上揭場址土地，縱 使地下水檢測結果，三氯乙烯與四氯乙烯濃度均超過第二 類地下水污染管制標準屬實，惟被告既未能查明該地下水 污染之來源，即將該土地公告為地下水污染控制場址，自 屬違誤。 （二）原告於訴願書陳明上揭所陳意旨，惟訴願決定略以：有關 訴願人主張原處分機關並未查明地下水污染之來源，不符 合地下水污染來源明確之要件一節，惟按土壤及地下水污 染整治法第12條第2項暨同法施行細則第8條規定之地下水 污染來源明確，指依查證、調查結果及資料，可判斷或確 認造成地下水污染之物質或位置等資訊，已如前述，是項 規定係基於地下水具流動性質，若無法確認其地下水污染 從何而來即貿然投入改善整治工程，將無法有效發揮整治 功能，耗費行政資源及整治經費。其中判斷或確認之方式 ，如業經環保主管機關就造成地下水污染之物質，已排除 調查範圍以外之污染干擾，掌握涉及產生該物質之製程或 其他來源位置，並合理論述該物質傳輸至採樣地點之途逕 ，得據以進行後續相關改善工程者，應認為地下水污染來 源已屬明確。又前揭地下水污染來源明確之認定，與環保 主管機關已進一步查明地下水污染係由特定行為人所造成 ，而公告為污染行為人之情形有別，合先敘明。卷查本件 據被告答辯略以：「……本市○○區○區段○○○○號之地 下水質，經大署及本府環境保護局於該地號設置地下水監 測井多次採樣結果，污染物三氯乙烯與四氯乙烯濃度均達 污染管制標準，確認造成地下水污染之物質為非自然環境 存在之三氯乙烯及四氯乙烯……」等語；並有本署執行「 高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二期）：臺 中加工出口區」成果報告略以：「……六、調查結果總結 ：1、依工業區尺度地下水調查……，顯示臺中加工出口 區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至區內；……。2 、保得士光學公司用地內及周圍地下水皆有三氯乙烯及四 氯乙烯超標情形，……保得士曾使用三氯乙烯進行光學鏡 片清洗，……該廠污水處理廠運作與地下水污染仍具關聯 性。亞洲光學用地內地下水皆有三氯乙烯及四氯乙烯超標 情形，……亞洲光學曾使用三氯乙烯及二氯甲烷作為鏡片 清洗劑……，該廠過去溶劑儲存情形與地下水三氯乙烯污 染應具有關聯性。……前手事業台灣菱慶曾使用過含氯有 機溶劑……」等語。足認已排除臺中加工出口區以外之污 染傳輸至區內情形，並已查明臺中加工出口區數家業者（ 包含原告）曾有產生該污染物質之製程或其他來源位置， 且系爭場址之採樣地點緊鄰其中一處污染來源位置（即原 告污水處理廠），足徵被告業已確認造成污染之根源，難 謂不符合地下水污染來源明確之要件；是原告所訴未查明 地下水污染之來源，不符合地下水污染來源明確之要件等 語，洵非可採云云。 （三）惟查訴外人台灣佳能股份有限公司（下稱台灣佳能公司） 所屬北環新廠，於經濟部臺中加工出口區內臺中市○○區 ○區段25-1、25-6地號土地設廠從事電腦、電子產品及光 學製品製造業，為該土地之使用人，前經行政院環境保護 署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二 期）」及被告所屬環境保護局執行「臺中市潭子區、北屯 區及鄰近地區地下水含氯有機物調查及查證工作計畫」調 查工作，亦經被告以102年8月5日府授環水字第102013169 4號公告上開25-1、25-6地號土地為地下水污染控制場址 ，該公司提起訴願後，經行政院環境保護署訴願決定撤銷 該公告地下水污染控制場址之處分。該訴願決定提及「惟 查本署執行『高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（ 第二期）：臺中加工出口區』成果報告略以：『……六、 調查結果總結：1、依工業區尺度地下水調查……，顯示 臺中加工出口區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至區 內；……。4、根據本計畫調查結果，佳能北環新廠地下 水有三氯乙烯及四氯乙烯超過地下水污染管制標準之情形 ，但淺層及深層土壤無檢出相關污染物；依工廠現勘結果 ，佳能北環新廠無使用三氯乙烯或四氯乙烯之事證，…… 。七、後續建議：1、於民國70至80年間，佳能北環新廠 西側之北環立體停車場用地，曾做為加工出口區內廠商之 廢溶劑共同暫存用地，依本計畫尺度調查自記式水位計紀 錄所繪製之臺中加工出口區內地下水流向，北側流向大致 為西北向東南，依流向推測，佳能北環新廠之地下水污染 可能來自於早年廢溶劑暫存區，建議後續可針對北環停車 場用地進行地下水調查，確認此處地下水中含氯有機溶劑 污染來源。』足見本案調查結果雖已排除臺中加工出口區 以外之污染傳輸至區內情形，惟依流向推測，尚無法確認 訴願人北環新廠地下水污染含氯有機溶劑之污染來源，後 續尚需針對北環停車場用地進行地下水調查，換言之，目 前調查結果顯示，尚無法探求出訴願人北環新廠地下水含 氯有機溶劑之傳輸途徑。爰此，自難謂業已符合地下水污 染來源明確之要件，原處分機關未進一步查證是否合致土 污法第12條第2項之要件，即逕行公告，自非適法。是原 處分既有上述之瑕疵，即應予撤銷，由原處分機關查明事 實後另為適當之處理，以符法旨。」 （四）按台灣佳能公司所屬北環新廠，其所使用之臺中市○○區 ○區段25-1、25-6地號土地，位於臺中加工出口區西北角 ，該廠以西、以北土地，已非屬臺中加工出口區範圍，既 然依行政院環境保護署執行「高污染潛勢工業區污染源調 查及管制計畫（第二期）：臺中加工出口區」，其尺度調 查自記式水位計紀錄所繪製之臺中加工出口區內地下水流 向，北側流向大致為西北向東南，則該25-1、25-6地號土 地之地下水驗出之三氯乙烯、四氯乙烯，即有可能來自該 25-1、25-6地號土地西北方土地，亦即可能來自臺中加工 出口區以外之土地。此種情形，上開調查及管制計畫之成 果報告第6點「調查結果總結」之1，推斷載稱「依工業區 尺度地下水調查……，顯示臺中加工出口區區外北側及西 北側應無相關污染傳輸至區內」云云，難認正確無誤。因 此，本件關於原告之訴願決定，依上開推斷，進而判定「 足徵原處分機關業已確認造成污染之根源，難謂不符合地 下水污染來源明確之要件」云云，自屬違誤。事實上，臺 中加工出口區區外，過去諸多照相館、加工廠或洗衣店， 均有使用四氯乙烯，其廢餘四氯乙烯未經處理，直接排入 廢水溝內，自難免污染土壤及地下水；而四氯乙烯在環境 中可能經水解、光解或生物分解後轉為三氯乙烯。按加工 出口區內廠商使用毒性化學物質，其販入、使用及廢餘處 理，均受嚴格控管；區外廠商可能在毒性化學物質管制建 立前，即已開始使用相關毒性化學物質，而管制建立之後 ，對區外廠商之管制相對鬆散。此種情形，環保機關依據 對於加工出區廠商控管之資料，而注意到加工出口區內土 壤與地下水之檢測，卻忽略區外土壤及地下水之檢測，將 無法明確判定其地下水污染從何而來，自無法有效發揮整 治功能，達成土壤及地下水污染整治法「確保土地及地下 水資源永續利用，改善生活環境，維護國民健康」之立法 目的。又上開就台灣佳能公司訴願所為訴願決定，以台灣 佳能公司北環新廠地下水雖有三氯乙烯及四氯乙烯超過地 下水污染管制標準之情形，但淺層及深層土壤無檢出相關 污染物，而認尚無法確認該北環新廠地下水污染含氯有機 溶劑之污染來源，從而撤銷地下水污染控制場址公告之原 處分。按原告所使用之系爭場址，雖地下水有三氯乙烯及 四氯乙烯超過地下水污染管制標準之情形，但淺層及深層 土壤未檢出三氯乙烯及四氯乙烯相關污染物，其情形與上 開台灣佳能公司所使用上開土地之情形，完全相同，但兩 案之訴願決定，其結果卻相反，此種情形，自無以昭折服 。關於原告所使用系爭場址，其淺層及深層土壤未檢出三 氯乙烯及四氯乙烯相關污染物，此據經濟部加工出口區管 理處臺中分處召開研商臺中園區內土壤及地下水應變措施 會議時，環保人員口頭說明在案，倘被告否認其事，即請 調取相關檢測報告，以資證明。 （五）綜上所述，原處分認事用法，均有所違誤。為此，原告依 據行政訴訟法第4條第1項提起撤銷訴訟，並聲明求為判決 ： 　⒈原處分及訴願決定均撤銷。 　⒉訴訟費用由被告負擔。 三、被告則以： （一）查土壤及地下水污染整治法第2條第17款規定，污染控制 場址：指土壤污染或地下水污染來源明確之場址，其污染 物非自然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌，致該污染 物達土壤或地下水污染管制標準者；土壤及地下水污染整 治法第12條第1項規定，各級主管機關對於有土壤或地下 水污染之虞之場址，應即進行查證，並依相關環境保護法 規管制污染源及調查環境污染情形；土壤及地下水污染整 治法第12條第2項規定，前項場址之土壤污染或地下水污 染來源明確，其土壤或地下水污染物濃度達土壤或地下水 污染管制標準者，直轄市、縣（市）主管機關應公告為土 壤、地下水污染控制場址；土壤及地下水污染整治法施行 細則第8條規定，本法第12條第2項所稱地下水污染來源明 確，指依查證、調查結果及資料，可判斷或確認造成地下 水污染之物質或位置等資訊。 （二）有關原告主張污染可能來自臺中加工出口區外，被告既未 能查明地下水污染之來源，即將該土地公告為地下水污染 控制場址，自屬違誤乙節，查土壤及地下水污染整治法第 12條第2項規定，場址之地下水污染來源明確，且污染物 濃度達地下水污染管制標準者，應公告為地下水污染控制 場址；另土壤及地下水污染整治法施行細則第8條規定， 地下水污染來源明確係指依調查結果可判斷或確認造成地 下水污染之物質或位置等資訊。查行政院環境保護署與被 告所屬環境保護局為調查臺中加工出口區之地下水污染情 形及範圍與追查污染源，於臺中加工出口區內及區外地下 水流向之上、下游設置多口監測井，其中位於上游之監測 井，除較鄰近於臺中加工出口區者曾有地下水污染物三氯 乙烯及四氯乙烯監測濃度檢出微量值外，皆無超過管制標 準情形，且與臺中加工出口區內各監測井檢出之三氯乙烯 或四氯乙烯濃度有數十倍至數百倍之差異，顯見臺中加工 出口區內之地下水污染源來自於臺中加工出口區內甚為明 確。環保署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計 畫（第二期）：臺中加工出口區」成果報告略以：「…… 六、調查結果總結：1.依工業區尺度地下水調查……，顯 示臺中加工出口區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至 區內；……。2.保得士光學公司用地內及周圍地下水皆有 三氯乙烯及四氯乙烯超標情形，……保得士曾使用三氯乙 烯進行光學鏡片清洗，……該廠污水處理廠運作與地下水 污染仍具關聯性。3.亞洲光學用地內地下水皆有三氯乙烯 及四氯乙烯超標情形，……亞洲光學曾使用三氯乙烯及二 氯甲烷作為鏡片清洗劑……，該廠過去溶劑儲存情形與地 下水三氯乙烯污染應具關聯性。……5.根據本計畫調查結 果及環保局計畫土壤檢測結果，菱真用地○○○區○區段 ○○○ ○號)地下水有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情形，… …前手事業台灣菱慶曾使用過含氯有機溶劑，……。」等 語；被告已查明臺中加工出口區內業者（含原告之前身） 曾有產生該污染物質之製程或其他來源位置，足已排除臺 中加工出口區以外之污染傳輸至區內情形，足徵被告已確 認造成污染之根源，難謂不符合地下水污染來源明確之要 件。再查本市○○區○區段○○○○號之地下水質，經行政 院環境保護署於該地號設置之地下水監測井採樣檢測結果 ，污染物三氯乙烯與四氯乙烯濃度均達污染管制標準，確 認造成地下水污染之物質為非自然環境存在之三氯乙烯及 四氯乙烯，其污染來源明確且逾管制標準，認就造成地下 水污染之物質或位置等資訊已足以判斷及確認，已符合地 下水污染來源明確之定義。復參最高行政法院101年9月20 日101年度判字第850號判決理由六、（三）：「土壤及地 下水污染整治法施行細則第8條之規定，土壤及地下水污 染整治法第12條第2項所稱地下水污染來源明確，指依查 證、調查結果及資料，可判斷或確認造成地下水污染之物 質或位置等資訊。該細則係依土壤及地下水污染整治法第 56條規定，就「地下水污染來源明確」定義為細節性或技 術性規定，並無不符立法意旨或逾越母法規定，法院自得 予以適用。又上述規定所稱之地下水污染來源明確，僅以 地下水污染之物質或位置等資訊，依主管機關查證、調查 結果及資料，得以判斷或確認者，即為已足」。爰此，該 地號地下水污染情形，符合土污法第2條17款、第12條第2 項及細則第8條之規定，依法應公告為地下水污染控制場 址。 （三）有關原告稱工廠生產製程並未使用或含有三氯乙烯或四氯 乙烯化學物品乙節，查系爭場址前手使用人台灣菱興股份 有限公司（下稱台灣菱慶公司，於89年間設立，95年間歇 業）及原告前身台灣菱真電子材料股份有限公司（下稱台 灣菱真公司，於95年4月間自台灣菱慶股份有限公司分割 新設，於101年12月間變更其公司名稱為台灣菱興電子材 料股份有限公司，即原告）均於91年7月至98年12月間於 系爭地號、地址上確有申報二氯甲烷（2.875公噸）及三 氯乙烯（33.64公噸）購買及使用之紀錄，至於原告製程 有無使用或釋出該等污染物質，尚與本件公告地下水污染 控制場址要件無涉。 （四）有關原告主張工區段169地號土地地下水有三氯乙烯及四 氯乙烯超過地下水污染管制標準情形，與台灣佳能公司25 -1、25-6地號土地情形完全相同，但兩案之訴願決定，其 結果卻相反乙節，查訴外人台灣佳能公司所屬北環新廠○ ○○區○區段25-1、25-6地號）係位於臺中加工出口區內 之西北角，區外北側及西北側因無相關污染傳輸至區內， 被告公告上開地號土地為地下水污染控制場址，經行政院 環境保護署訴願決定撤銷該處分之理由，已提及本案調查 結果雖已排除臺中加工出口區以外之污染傳輸至區內情形 ，惟尚無法確認北環新廠地下水污染含氯有機溶劑之污染 來源，後續尚需針對加工出口區內該等地號旁，曾做為加 工出口區內廠商廢溶劑共同暫存之北環停車場進行地下水 調查，目前調查結果尚未探就該等地號地下水污染物之傳 輸途徑，難謂符合地下水污染來源明確之要件。惟本案系 爭場址位於臺中加工出口區內，地下水污染物濃度超過管 制標準，除已排除臺中加工出口區外污染傳輸至該地號情 形外，並已查明區內數家業者（含原告之前身）曾有產生 對應污染物質之製程或其他來源位置，足徵已確認污染之 根源，與工區段25-1及25 -6地號調查結果自有不同，不 可並論。 （五）系爭場址經查地下水污染物濃度超過地下水污染管制標準 且來源明確，被告依法公告系爭場址為控制場址，於法無 違： ⒈「按，土壤及地下水污染整治法施行細則第8條之規定， 土壤及地下水污染整治法第12條第2項所稱地下水污染來 源明確，指依查證、調查結果及資料，可判斷或確認造成 地下水污染之物質或位置等資訊。該細則係依土壤及地下 水污染整治法第56條規定，就『地下水污染來源明確』定 義為細節性或技術性規定，並無不符立法意旨或逾越母法 規定，法院自得予以適用。又上述規定所稱之地下水污染 來源明確，僅以地下水污染之物質或位置等資訊，依主管 機關查證、調查結果及資料，得以判斷或確認者，即為已 足。至於系爭場址之污染行為人是否已查明、導致污染結 果之其他原因為何（污染物質以外之原因，如由何一工廠 之何項製程所產生之污染），與污染來源是否明確並無關 聯，並非該等場址應否公告為控制、整治場址之要件。原 審已說明本件地下水污染確係來自臺中加工出口區內；地 下水污染原因物質係持續存在於臺中市○○區○區段○○○ ○號之地下水中，亦即其地下水污染確實產生且持續存在 於系爭場址之事實……，則原處分依土壤及地下水污染整 治法第12條第2項公告為控制場址，於法並無不合」此有 最高行政法院101年度判字第850號判決可資參照。 ⒉按「各類型污染場址之公告列管範圍評估作業流程：（一 ）地下水污染場址：當場址內設置之地下水標準監測井採 樣檢測結果達地下水污染管制標準且污染來源明確，如評 估地下水污染有擴散疑慮，原則得公告全廠（場）區所有 地號為場址。惟個案仍得視現場實際情況，以公告廠（場 ）區部分地號方式管制（如圖二）」、「工廠類：廢棄工 廠/運作中工廠：原則公告達管制標準採樣點所在地號； 如個案場址單筆面積甚大，仍得視採樣點分布及現場實際 情況，以公告廠（場）區部分地號方式管制」此有場址污 染範圍與管制區之劃定及公告作業原則第3點及圖二可稽 。 ⒊為掌握國內高污染潛勢工業區之土壤及地下水品質狀況， 行政院環境保護署委辦「高污染潛勢工業區污染源調查及 管制計畫（第二期）」。依據全國工業區土壤及地下水品 質管理燈號分級狀況，選擇高雄楠梓加工出口區及臺中潭 子加工出口區等2處屬紅燈之工業區，作為調查對象。屬 紅燈之工業區表示現況存在污染且污染已擴散至區外者。 ⒋行政院環境保護署上開計畫，依據現場勘查結果並綜合考 量地理位置、稽查紀錄、歷年地下水監測調查資料等因子 ，挑選出共計5家事業進行工廠調查作業，名單包括：保 得士光學股份有限公司（下稱保得士光學公司）、亞洲光 學股份有限公司（下稱亞洲光學公司）、台灣佳能公司、 台灣菱真公司及台灣真珠樂器股份有限公司（下稱台灣真 珠公司）。 ⒌調查結果顯示5處工廠之地下水均檢出污染物濃度超過地 下水污染管制標準，其中亞洲光學公司、保得士光學公司 、台灣佳能公司北環新廠、台灣真珠樂器公司（一、二廠 ）、台灣菱真公司5廠之地下水四氯乙烯及三氯乙烯均超 過第二類地下水污染管制標準。 ⒍其中，台灣菱真公司所在地號○○○區○區段○○○○號， 其地下水三氯乙烯濃度0.104mg/L（地下水污染管制標準 ：0.05mg/L）、四氯乙烯濃度0.1784mg/L（地下水污染管 制標準：0.05mg/L）。 ⒎系爭場址污染來源經確認係來自於臺中加工出口區內，污 染來源明確： ⑴另查行政院環境保護署與被告為調查臺中加工出口區之 地下水污染情形及範圍與追查污染源，於臺中加工出口 區內及區外地下水流向之上、下游設置多口監測井，其 中位於上游之監測井，除較鄰近於臺中加工出口區者曾 有地下水污染物三氯乙烯及四氯乙烯監測濃度檢出微量 值外，皆無超過管制標準情形，且與臺中加工出口區內 各監測井檢出之三氯乙烯或四氯乙烯濃度有數十倍至數 百倍之差異，亦顯見臺中加工出口區內之地下水污染源 來自於臺中加工出口區內甚為明確。 ⑵由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二期） 期末報告第4-37至4-41頁可知，臺中加工出口區地下水 流向大致為西北向東南流，為確認污染物是否有由區外 北側流入區內之可能，行政院環境保護署於臺中加工出 口區之東北側設置監測井L00154、北側設置監測井L001 52、西北側設置L00155。調查結果顯示，除東北側之監 測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯外（地 下水污染管制標準：0.05mg/L），監測井L00152及L001 55均未測出含氯有機污染物濃度。是以行政院環境保護 署該調查成果報告書認定「臺中加工出口區區外北側及 西北側應無相關污染傳輸至區內」。 ⑶其中，由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第 二期）期末報告第4-38頁可知，監測井L00152位於系爭 場址之上游，未測出含氯有機污染物濃度，足以排除系 爭場址污染物由區外北側傳輸至區內之可能性；亦即， 可資確認系爭場址之污染物係來自於臺中加工出口區內 ，符合土壤及地下水污染整治法施行細則第8條「可確 認或判斷造成地下水污染之物質或位置等資訊」之污染 來源明確要件。 ⑷另由102年2月高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 （第二期）第10頁記載「六、調查結果總結……2.保得 士公司用地內及周圍地下水皆有三氯乙烯及四氯乙烯超 標情形…依工廠現勘結果，保得士曾使用三氯乙烯進行 光學鏡片清洗……該廠污水處理廠運作與地下水污染仍 具關聯性。3.亞洲光學用地內地下水皆有三氯乙烯及四 氯乙烯超標情形……依工廠現勘結果，亞洲光學曾使用 三氯乙烯及二氯甲烷做為鏡片清洗劑……該廠過去溶劑 儲存情形與地下水三氯乙烯污染應具關聯性。……5.根 據本計畫調查結果及環保局計畫土壤檢測結果，菱真用 地地下水有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情形……前手事 業台灣菱慶曾使用過含氯有機溶劑……」等語可知，除 臺中加工出口區內有多家廠商曾有使用三氯乙烯之紀錄 ，且其廠區地下水亦查出三氯乙烯污染以外，系爭場址 之前手事業亦有使用三氯乙烯之紀錄，其地下水亦查出 有地下水污染物濃度超過管制標準情事。參以污染物由 區外北側傳輸進入區內之可能性業經排除乙節可知，系 爭場址之污染來源來自臺中加工出口區內，可資明確。 ⒏綜上可證，系爭場址地下水污染源自臺中加工出口區內， 且三氯乙烯及四氯乙烯污染情況為超過地下水污染管制標 準，依最高行政法院101年度判字第850號判決意旨，認就 造成地下水污染之物質或位置等資訊已足以判斷及確認， 符合地下水污染來源明確之定義，且污染物濃度逾管制標 準，依土壤及地下水污染整治法第12條第2項公告為地下 水污染控制場址，應屬適法。 （六）依相關毒性化學物質申報紀錄與許可紀錄可知，臺中分處 轄內原告、亞洲光學公司及台灣菱慶公司均曾使用含氯有 機溶劑：由行政院環境保護署「毒性化學物質許可管理系 統」許可紀錄之查詢結果可知，原告前身台灣菱真公司領 有二氯甲烷之使用許可（運作人管制編號：L0000000）、 保得士光學公司（運作人管制編號：L94A1563）領有二氯 甲烷及三氯乙烯之使用許可及亞洲光學公司（運作人管制 編號：L0000000）領有二氯甲烷、三氯乙烯之使用許可。 查系爭場址前手使用人台灣菱慶公司（於89年間設立，95 年間歇業）及原告前身台灣菱真公司（於95年4月間自台 灣菱慶公司分割新設；並於101年12月間變更其公司名稱 為台灣菱興電子材料股份有限公司）均於91年7月至98年1 2月間於系爭地號、地址上確有申報二氯甲烷（2.875公噸 ）及三氯乙烯（33.64公噸）購買及使用之紀錄。復依行 政院環境保護署「毒性化學物質許可管理系統」申報紀錄 可知，保得士光學公司與亞洲光學公司於97年至100年皆 申報三氯乙烯及二氯甲烷之運作紀錄。綜上可知臺中加工 出口區內有廠商使用三氯乙烯之紀錄，其地下水亦查出有 地下水三氯乙烯濃度超過管制標準情事，佐以行政院環境 保護署及被告相關監測井資料已排除污染物由區外北側傳 輸進入區內之可能性乙節，系爭場址地下水污染物來源可 確認來自於臺中加工出口區內污染來源明確。 （七）二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯均可作為電子零件或光學 製品清洗劑之用，廠商可能將相關溶劑交錯使用，以致系 爭場址驗出四氯乙烯成分，另依過去查證經驗顯示實務上 亦多檢出三氯乙烯與四氯乙烯同一場址併存之情形： ⒈經查，二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零 組件與光學製品製造業之清洗溶劑成分，此有國家環境毒 物研究中心網頁資料行政院環境保護署「運作工廠及地下 水含氯有機溶劑污染潛勢調查及查證計畫」及經濟部工業 局「含氯碳氫化合物：土壤及地下水預防及整治技術手冊 」等可稽，在同一污染場址亦常見同時發現上開含氯有機 污染物。 ⒉復查，依據行政院環境保護署毒性化學物質許可管理系統 資料顯示將二氯甲烷作為洗滌用途之廠商亦常見同時使用 三氯乙烯作為清潔劑之用。 ⒊另由上可知，發現有三氯乙烯之場址，亦常見四氯乙烯之 污染。系爭場址附近廠商雖未有四氯乙烯申報紀錄，惟此 可能係因為早期相關管制法規尚未健全，亦無廢溶劑管理 或回收再利用法令，廠商可能未對四氯乙烯之使用進行申 報，導致雖未申報四氯乙烯使用紀錄，卻仍查出是項污染 之結果。另若廠商所使用之清洗劑倘來源不明或品質不佳 ，亦有可能內含一定比例之四氯乙烯，倘廠商不知應經申 報即為使用，亦會導致實際上有使用四氯乙烯，然而卻查 無申報資料之情形。 （八）綜上，系爭場址業經查證確認持續存有地下水污染物濃度 超過管制標準，且其污染來源可據以確認係來自於臺中加 工出口區內，污染來源明確，被告依土壤及地下水污染整 治法第12條及公告作業原則公告該地號土地為地下水污染 控制場址，於法無違等語，資為抗辯。並聲明求為判決駁 回原告之訴。 四、本院按，「本法用詞，定義如下：……十七、污染控制場址 ：指土壤污染或地下水污染來源明確之場址，其污染物非自 然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌，致該污染物達土壤 或地下水污染管制標準者。……十九、污染土地關係人：指 土地經公告為污染控制場址或污染整治場址時，非屬於污染 行為人之土地使用人、管理人或所有人。……」「各級主管 機關對於有土壤或地下水污染之虞之場址，應即進行查證， 並依相關環境保護法規管制污染源及調查環境污染情形。」 「前項場址之土壤污染或地下水污染來源明確，其土壤或地 下水污染物濃度達土壤或地下水污染管制標準者，直轄市、 縣（市）主管機關應公告為土壤、地下水污染控制場址（以 下簡稱控制場址）。」「各級主管機關依第12條第1項規定 進行場址查證時，如場址地下水污染濃度達地下水污染管制 標準，而污染來源不明確者，直轄市、縣（市）主管機關應 公告劃定地下水受污染使用限制地區及限制事項，依第15條 規定採取應變必要措施，並準用第25條規定辦理。」為土壤 及地下水污染整治法第2條第17款、第19款、第12條第1項、 第2項及第27條第1項所明定。另「本法第12條第2項所稱地 下水污染來源明確，指依查證、調查結果及資料，可判斷或 確認造成地下水污染之物質或位置等資訊。」「各級主管機 關依本法第12條第2項及第3項規定公告控制場址或整治場址 時，其公告內容如下：一、污染行為人姓名或名稱。二、場 址名稱。三、場址地址、地號、位置或座標。四、場址現況 概述。五、污染物及污染情形。六、其他重要事項。」則為 土壤及地下水污染整治法施行細則第8條及第10條第1項所明 定。 五、上揭事實概要欄所載之事實，除後列之爭點事項外，其餘兩 造所不爭執，並有原處分書、被告102年4月16日府授環水字 第1020064025號函、被告所屬環境保護局102年5月15日中市 環水字第1020046157號函、102年7月31日中市環水字第1020 076383號函、經濟部工業局含氯碳氫化合物土壤及地下水污 染預防與整治技術手冊、經濟部加工出口區管理處95年3月1 3日經加三資字第09500017750號函、95年4月10日加授中字 第09500400290號函、101年12月17日加授中字第1010004012 30號函、經濟部加工出口區管理處臺中分處95年4月14日經 加中三字第09500015730號函、95年11月21日經加中三字第0 9500051890號函稿、行政院環境保護署102年6月6日環署土 字第1020047650號函、102年9月12日環署訴字第1020079239 號函、102年10月4日環署訴字第1020085659號函、99年1月 運作中工廠土壤及地下水含氯有機溶劑污染潛勢調查及查證 計畫、102年2月高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（ 第二期）、102年3月印製高污染潛勢工業區污染源調查及管 制計畫（第二期）期末報告、高污染潛勢工業區污染源調查 及管制計畫（第二期）調查成果研商會議紀錄、高污染潛勢 工業區地下水品質調查結果行政管制工作會議會議紀錄、毒 物化學物質許可管理系統許可紀錄、申報紀錄查詢頁面影本 、行政院環境保護署訴願審議委員會102年第3次調查檢驗會 勘紀錄、原告102年4月29日（102）總字第030號函、陳述意 見書、公司登記資料查詢頁面影本、公司位置圖、91至95年 含氯毒化物運作紀錄共有兩種毒化物三氯乙烯以及二氯甲烷 其中該業者95年證件以註銷無毒化物質申報資料列表、地籍 圖資料查詢頁面影本、原告前身台灣菱真公司91至94年間於 系爭場址購買及使用二氯甲烷及三氯乙烯申報紀錄、91年7 月至98年11月於毒管處系統申報總量、調查作業資料、工廠 現勘紀錄表、訴外人上準環境科技股份有限公司101年12月 臺中市潭子區、北屯區及鄰近地區地下水含氯有機物調查及 查證工作計畫期末報告（定稿本）、土壤樣品檢驗報告、訴 外人臺旭環境科技中心股份有限公司地下水樣品採樣報告、 系爭場址地下水氯烯類檢測結果、門牌資訊查詢頁面影本、 臺中加工出口區廠商配置圖與地理位置圖、採樣位置及調查 結果分布圖、地下水採樣與分析報告、監測井基本資料卡、 持有二氯甲烷及三氯乙烯之事業清單、土壤採樣點例圖、等 件附卷可稽，為可確認之事實。 六、歸納兩造上述主張，本件之爭執重點厥為：本件污染來源是 否明確來自系爭場址？被告所檢驗出四氯乙烯是否可能來自 臺中加工出口區區外？台灣佳能公司使用25-1、25-6地號土 地土地之情形與原告完全相同，但兩案之訴願決定，其結果 卻相反，被告有無事實認定錯誤？茲分述如下： （一）依前揭土壤及地下水污染整治法第12條規定，各級主管機 關對於有土壤或地下水污染之虞之場址，應即進行查證， 並依相關環境保護法規管制污染源及調查環境污染情形。 又該場址之土壤污染或地下水污染來源明確，其土壤或地 下水污染物濃度達土壤或地下水污染管制標準者，直轄市 、縣（市）主管機關應公告為土壤、地下水污染控制場址 。因此，主管機關對於地下水污染來源明確且經檢測地下 水品質狀況，其污染物濃度超過污染管制標準者，自得依 首揭規定公告該污染區為地下水污染控制場址。至於所稱 「地下水污染來源明確」，乃指依查證、調查結果及資料 ，可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資訊，則 經土壤及地下水污染整治法施行細則第8條規定甚明。行 政院環境保護署為掌握國內高污染潛勢工業區之土壤及地 下水品質狀況，委託辦理「高污染潛勢工業區污染源調查 及管制計畫（第二期）」，並作成期末報告及調查成果報 告書在卷可稽（參見本院第117頁至第177頁、第180頁至 第193頁）。該調查報告係按全國工業區土壤及地下水品 質管理燈號分級狀況，選擇高雄楠梓加工出口區及臺中潭 子加工出口區等2處屬紅燈之工業區作為調查對象（參見 本院卷第117頁背面），而所稱紅燈之工業區，乃表示現 況存在污染且污染已擴散至區外者（參見本院卷第176頁 背面）。又行政院環境保護署上開計畫，依據現場勘查結 果並綜合考量地理位置、稽查紀錄、歷年地下水監測調查 資料等因子，在臺中潭子加工出口區部分挑選出共計5家 事業進行工廠調查作業，包括保得士光學公司、亞洲光學 公司、台灣佳能公司、台灣菱真公司及台灣真珠公司。經 調查結果顯示5處工廠之地下水均檢出污染物濃度超過地 下水污染管制標準，其中亞洲光學公司、保得士光學公司 、台灣佳能公司北環新廠、台灣真珠公司（一、二廠）、 台灣菱真公司5廠之地下水四氯乙烯及三氯乙烯均超過第 二類地下水污染管制標準（參見本院卷第122頁）。其中 ，原告所在地號○○○區○區段○○○○號，其地下水三氯 乙烯最高為0.104mg/L（地下水污染管制標準：0.05mg/L ）、四氯乙烯最高為0.178mg/L（地下水污染管制標準： 0.05mg/L）（參見本院卷第175頁背面）。經查，本件原 告在系爭場址設廠從事電子零組件製造業，為系爭場址之 土地使用人，前經行政院環境保護署執行上開調查工作， 於101年9月10日至同年10月20日期間派員前往系爭場址標 準監測井（B00148、B00149）進行地下水採樣工作，樣品 經檢測結果三氯乙烯最高濃度為0.104mg/L（地下水污染 管制標準：0.05mg/L）、四氯乙烯最高為0.178mg/L，均 超出地下水污染管制標準所定三氯乙烯0.05mg/L、四氯乙 烯0.05mg/L之限值，經被告臺中市政府調查發現該污染物 非自然環境存在，且非臺中加工出口區以外之污染傳輸至 區內情形，而係來自於臺中加工出口區內，有行政院環境 保護署「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二 期）：臺中加工出口區」調查成果報告書節本、期末報告 、系爭地號地下水氯烯類檢測結果、廠商配置圖與地理位 置圖、加工出口區採樣位置及調查結果分布圖、地下水採 樣與分析報告等資料附卷可稽（參見本院第117頁至第177 頁、第180頁至第193頁），因而認定系爭場址地下水污染 來源明確，乃依首揭規定，以原處分公告系爭場址為地下 水污染控制場址，並非無據。 （二）次按，「土壤及地下水污染整治法施行細則第8條之規定 ，土壤及地下水污染整治法第12條第2項所稱地下水污染 來源明確，指依查證、調查結果及資料，可判斷或確認造 成地下水污染之物質或位置等資訊。該細則係依土壤及地 下水污染整治法第56條規定，就『地下水污染來源明確』 定義為細節性或技術性規定，並無不符立法意旨或逾越母 法規定，法院自得予以適用。又上述規定所稱之地下水污 染來源明確，僅以地下水污染之物質或位置等資訊，依主 管機關查證、調查結果及資料，得以判斷或確認者，即為 已足。至於系爭場址之污染行為人是否已查明、導致污染 結果之其他原因為何（污染物質以外之原因，如由何一工 廠之何項製程所產生之污染），與污染來源是否明確並無 關聯，並非該等場址應否公告為控制、整治場址之要件」 有最高行政法院101年度判字第850號判決意旨可資參照。 經查，行政院環境保護署高污染潛勢工業區污染源調查及 管制計畫（第二期）期末報告中載明：「二、地下水污染 情形：彙整環保署查證、環保局計畫及加工出口區管理處 計畫調查結果，目前潭子加工區附近地下水主要污染物為 三氯乙烯（TCE）和四氯乙烯（PCE），污染濃度最高之區 域主要位於潭子加工區南側，且區外南側（地下水流下游 ）由臺中市環保局所設置之監測井BMW04（潭子國小）及B MW05（潭秀國中）亦有測出超過地下水污染管制標準之三 氯乙烯（TCE）……環保局99年計畫結論亦指出，目前潭 子區及北屯區所發現之三氯乙烯污染來源，其污染團或殘 留相污染位置可能位於潭子加工區監測井MW-1至MW-3所構 成之三角區域內。」等語（參見本院卷第148頁背面）。 另依該期末報告第4章「潭子加工區調查作業」就「地下 水污染調查作業」部分之說明，關於臺中加工出口區地下 水流向大致為西北向東南流，行政院環境保護署為確認污 染物是否有由區外北側流入區內之可能，乃於經濟部臺中 加工出口區之東北側設置監測井L00154、北側設置監測井 L00152、西北側設置監測井L00155，調查結果顯示，除東 北側之監測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯 外，北側及西北側監測井L00152、L00155均未測出含氯有 機污染物，又西北側監測井L00152係位於系爭場址之上游 ，未測出含氯有機污染物等語（參見本院卷第154至156頁 ），可見系爭場址之污染物係來自於臺中加工出口區內， 而非由區外北側傳輸至區內。再102年2月高污染潛勢工業 區污染源調查及管制計畫（第二期）亦載明：「六、調查 結果總結：1、依工業區尺度地下水調查，於北L00154、 西北及東北側邊界補充調查監測井L00152、L00155及L001 54檢測結果，僅東北側邊界（臺中加工出口區東側大門附 近）之L00154地下水中檢出微量三氯乙烯，其他監測井皆 無檢驗出含氯有機污染物濃度，顯示臺中加工出口區區外 北側及西北側應無相關污染傳輸至區內；……2.保得士光 學公司用地內及周圍地下水皆有三氯乙烯及四氯乙烯超標 情形……依工廠現勘結果，保得士曾使用三氯乙烯進行光 學鏡片清洗……該廠污水處理廠運作與地下水污染仍具關 聯性。3.亞洲光學用地內地下水皆有三氯乙烯及四氯乙烯 超標情形……依工廠現勘結果，亞洲光學曾使用三氯乙烯 及二氯甲烷做為鏡片清洗劑……該廠過去溶劑儲存情形與 地下水三氯乙烯污染應具關聯性。……5.根據本計畫調查 結果及被告臺中市政府環境保護局計畫土壤檢測結果，菱 真用地地下水有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情形……前手 事業台灣菱慶曾使用過含氯有機溶劑……」等語（參見本 院卷第185頁）。其中，臺中加工出口區地下水流向大致 為西北向東南流，行政院環境保護署為確認污染物是否有 由區外北側流入區內之可能，在該加工出口區之東北側邊 界設置監測井L00154、北側邊界設置監測井L00152、西北 側邊界設置監測井L00155，調查結果顯示，除東北側之監 測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯外，北側 及西北側監測井L00152、L00155均未測出含氯有機污染物 （參見本院卷第154頁至第156頁）。雖上開在臺中加工出 口區東北側設置之監測井L00154檢測出0.00175mg/L之微 量三氯乙烯部分，因該監測井位於系爭場址之東側，依地 下水流方向而言，並不會影響系爭場址，此有地下水流向 圖、調查結果圖可資比對（參見本院卷第156頁、第192頁 ），故系爭污染物亦非由區外東側傳輸至區內。另有關臺 中加工出口區內廠商使用三氯乙烯及四氯乙烯情形部分， 保得士光學公司（運作人管制編號：L94A1563）領有二氯 甲烷及三氯乙烯之使用許可，亞洲光學公司（運作人管制 編號：L0000000）領有二氯甲烷、三氯乙烯之使用許可； 台灣菱真公司亦領有二氯甲烷之使用許可（運作人管制編 號：L0000000）；而保得士光學公司於98年至100年皆申 報三氯乙烯及二氯甲烷之運作紀錄，台灣菱真公司（於95 年自台灣菱慶股份有限公司分割新設，於101年12月間變 更其公司名稱為原告公司）之前手使用人台灣菱慶公司（ 於89年間設立，95年間歇業）於91年至94年間在系爭場址 曾有購買暨使用二氯甲烷與三氯乙烯之申報紀錄，分別有 行政院環境保護署「毒性化學物質許可管理系統」許可紀 錄之查詢結果單、申報紀錄、土壤及地下水污染整治基金 會管理會便簽、環境衛生及毒物管理處電子公文函覆等件 附卷可稽（參見本院卷第197頁至第208頁）。又二氯甲烷 、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零組件與光學製品 製造業之清洗溶劑成分，此有國家環境毒物研究中心網頁 資料、行政院環境保護署「運作中工廠及地下水含氯有機 溶劑污染潛勢調查及查證計畫」及經濟部工業局「含氯碳 氫化合物：土壤及地下水污染預防及整治技術手冊」等在 卷可稽（參見本院卷第208頁至第221頁）。依上開資料顯 示，在同一污染場址，亦常見同時發現上開含氯有機污染 物（參見本院卷第218頁、第220頁背面）。由經濟部工業 局「含氯碳氫化合物-土壤及地下水污染預防及整治技術 手冊」第3頁可知，三氯乙烯和四氯乙烯具有互相取代之 功能，故不管在國內外，均常於同一污染場址，同時發現 上開含氯有機污染物（參見本院卷219頁背面）。以美國 而言，80％以上之污染場址同時存在三氯乙烯及四氯乙烯 污染。以我國污染場址實務而言，早有協順、仁武、裕源 等污染場址，同時發現有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情事 （參見本院卷第214頁、第218頁）。以系爭場址而言，無 論保得士光學公司、亞洲光學公司、台灣真珠公司或台灣 菱真公司等，亦均同時驗出三氯乙烯及四氯乙烯超過地下 水污染管制標準情事（參見本院卷第192頁），此查證結 果與國內外之污染場址查證實務經驗相符。復查，依據行 政院環境保護署毒性化學物質許可管理系統資料顯示，將 二氯甲烷做為洗滌用途之廠商，亦常見同時使用三氯乙烯 作為清潔劑之用（參見本院卷第222頁）。據上可知，二 氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零組件與光 學製品製造業之清洗溶劑成分，其等有互相取代之功能。 故無論國內外，均常見同一場址同時檢出有三氯乙烯及四 氯乙烯污染情事，是以被告依據歷來文獻所載及污染場址 查證實務等研判四氯乙烯之污染與三氯乙烯之污染具有關 聯性，並無違經驗及論理法則。固然，訴外人保得士光學 公司、亞洲光學公司與台灣菱真公司未有其中四氯乙烯一 項之申報紀錄，惟此或係因早期相關管制法規尚未健全， 無廢溶劑管理或回收再利用法令，廠商因此未對四氯乙烯 之使用進行申報；又或係廠商所使用之清洗劑因來源不明 或品質不佳，混有一定比例之四氯乙烯，廠商未經申報即 予使用，因而發生實際使用四氯乙烯之結果，皆有可能， 故難據以推論系爭場址所受之四氯乙烯污染係從境外傳輸 進入區內。再者，土壤及地下水污染整治法第12條第2項 所稱地下水污染來源明確，係指依查證、調查結果及資料 ，可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資訊，本 件固查無特定廠商申報使用四氯乙烯之資料，致目前無從 判定該項污染行為人為何人，但本件已確認臺中加工出口 區內之廠商確實有使用二氯甲烷及三氯乙烯之情形，且二 氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零組件與光 學製品製造業之清洗溶劑成分，其等有互相取代之功能， 實務上均常見同一場址同時檢出有三氯乙烯及四氯乙烯污 染情事，應可確認系爭污染物確實來自包括原告在內之上 開廠商使用前揭含氯有機溶劑之結果，自屬污染來源明確 。而無從判定污染行為人為何人，實屬污染行為人追查問 題，尚與污染來源是否明確，及該等場址應否公告為控制 、整治場址之要件有別。上開保得士光學公司、亞洲光學 公司與台灣菱真公司等未有四氯乙烯之申報紀錄，尚難為 有利原告事實之認定。再查，另依高污染潛勢工業區污染 源調查及管制計畫（第二期）期末報告第4-38頁（參見本 院卷第155頁）顯示，行政院環境保護署既設監測井MW4位 於亞洲光學公司廠區，行政院環境保護署既設監測井MW1 及MW2位於保得士光學公司廠區，加工區既設監測井MW-1 位於系爭場址；而由高污染潛勢工業區污染源調查及管制 計畫（第二期）期末報告第4-40頁（見本院卷第156頁） 地下水流向圖可知，該處之地下水流向係由行政院環境保 護署既設監測井MW4流向MW-1加工區既設監測井（亦即， 由亞洲光學公司廠區流向系爭場址），以及由行政院環境 保護署既設監測井MW1及MW2流向MW-1加工區既設監測井（ 亦即，由保得士光學公司廠區流向系爭場址）。由此可知 ，亞洲光學公司廠區及保得士光學公司廠區之三氯乙烯及 四氯乙烯確實可藉由地下水傳輸至系爭場址。是以，本件 確實可認定系爭場址地下水污染物來源係來自於臺中加工 出口區內，而非他處，其污染來源明確，原告主張本件污 染來源有可能來自臺中加工出口區外，地下水污染來源並 不明確云云，並非可採。 （三）雖上開102年2月高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 （第二期）期末報告記載：「六、調查結果總結：……5. 根據本計畫調查結果及被告臺中市政府環境保護局計畫土 壤檢測結果，菱真用地地下水有三氯乙烯及四氯乙烯污染 之情形，但土壤無檢出相關污染物；依工廠現勘結果，前 手事業台灣菱慶曾使用過含氯有機溶劑，但用地上游處污 染物濃度較下游處高，因此本計畫檢出之地下水污染物可 能來自更上游。」（參見本院卷第304頁背面），主張不 能排除污染源是從區外傳輸而來，被告所稱污染源來自區 內污染與事實不符云云。但查，系爭場址之前使用人台灣 菱真公司曾領有二氯甲烷之使用許可（運作人管制編號： L0000000），其分割前之使用人台灣菱慶公司於91年至94 年間於系爭場址曾有購買暨使用二氯甲烷與三氯乙烯之申 報紀錄；另由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（ 第二期）期末報告第4-38頁（參見本院卷第155頁背面） 可知，行政院環境保護署既設監測井MW4位於亞洲光學公 司廠區，行政院環境保護署既設監測井MW1及MW2位於保得 士光學公司廠區，加工區既設監測井MW-1位於系爭場址， 而由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二期） 期末報告第4-40頁（見本院卷第156頁背面）地下水流向 圖可知，該處之地下水流向係由行政院環境保護署既設監 測井MW4流向MW-1加工區既設監測井（亦即，由亞洲光學 公司廠區流向系爭場址），以及由行政院環境保護署既設 監測井MW1及MW2流向MW-1加工區既設監測井（亦即，由保 得士光學公司廠區流向系爭場址）；臺中加工出口區地下 水流向大致為西北向東南流，行政院環境保護署為確認污 染物是否有由區外北側流入區內之可能，乃於經濟部臺中 加工出口區之東北側設置監測井L00154、北側設置監測井 L00152、西北側設置監測井L00155，調查結果顯示，除東 北側之監測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯 外，北側及西北側監測井L00152、L00155均未測出含氯有 機污染物，又西北側監測井L00152係位於系爭場址之上游 ，未測出含氯有機污染物等情，俱如前述。依照上開事證 顯示，設置在臺中加工出口區北側邊境之監測井L00152， 位於系爭場址之西北側，且屬距離最近之監測井（參見本 院卷第191頁），依其地下水流向（參見本院卷第156頁背 面），若系爭場址之污染物係來自臺中加工出口區外，則 監測井L00152理應測出該污染物，然本件並未測得（參見 本院卷第192頁，N.D.表示未測得），顯見系爭場址之地 下水有三氯乙烯及四氯乙烯污染之情形，應係因該場址之 前手使用人台灣菱慶公司使用相關含氯有機溶劑，及亞洲 光學公司廠區及保得士光學公司廠區使用該含氯有機溶劑 因地下水迴流所致。亦即，系爭場址之污染物應係來自於 臺中加工出口區內，而非由區外北側傳輸至區內，至為明 確。至於經濟部臺中加工出口區在東北側設置之監測井L0 0154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙烯部分，因該監測 井位於系爭場址之東側，依地下水流方向而言，並不會影 響系爭場址，此有地下水流向圖、調查結果圖可資比對（ 參見本院卷第156頁、第192頁），故系爭污染物亦非由區 外東側傳輸至區內。因此，上開102年2月高污染潛勢工業 區污染源調查及管制計畫（第二期）期末報告所載「因此 本計畫檢出之地下水污染物可能來自更上游」等語，應包 含因地下水迴流之所稱更上游情形。從而，上開102年2月 高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫（第二期）期末 報告之有關記載，並不能據以認定本件污染源是從區外傳 輸而來。 （四）雖原告主張「台灣佳能公司所屬北環新廠，於經濟部臺中 加工出口區內臺中市○○區○區段25-1、25-6地號土地設 廠從事電腦、電子產品及光學製品製造業，為該土地之使 用人，前經行政院環境保護署執行『高污染潛勢工業區污 染源調查及管制計畫（第二期）』及被告所屬環境保護局 執行『臺中市潭子區、北屯區及鄰近地區地下水含氯有機 物調查及查證工作計畫』調查工作，亦經被告以102年8月 5日府授環水字第1020131694號公告上開25-1、25-6地號 土地為地下水污染控制場址，該公司提起訴願後，經行政 院環境保護署訴願決定撤銷該公告地下水污染控制場址之 處分。……足見本案調查結果雖已排除臺中加工出口區以 外之污染傳輸至區內情形，惟依流向推測，尚無法確認訴 願人北環新廠地下水污染含氯有機溶劑之污染來源，後續 尚需針對北環停車場用地進行地下水調查，換言之，目前 調查結果顯示，尚無法探求出訴願人北環新廠地下水含氯 有機溶劑之傳輸途徑。爰此，自難謂業已符合地下水污染 來源明確之要件，原處分機關未進一步查證是否合致土污 法第12條第2項之要件，即逕行公告，自非適法。」云云 。經查，原告所稱台灣佳能公司所屬北環新廠部分，固經 行政院環境保護署決定將被告就該廠所在臺中市○○區○ ○段25-1、25-6地號公告為地下水污染控制場址之行政處 分撤銷，有該署102年12月19日環署訴字第1020080373號 訴願決定書附卷可稽（參見本院卷第24頁至第30頁）。惟 該決定書撤銷之理由，乃是依地下水流向推測，並無法確 認該廠地下水污染含氯有機溶劑之污染來源，尚需針對北 環停車場用地進行地下水調查等語，但同時亦認定已排除 污染源係來自臺中加工出口區以外傳輸至區內之情形。此 部分排除從區外傳輸至區內之認定與上開說明，並無歧異 。又原告前手使用人台灣菱慶公司於91年至94年間在系爭 場址曾有購買暨使用二氯甲烷與三氯乙烯之申報紀錄；另 亞洲光學公司廠區及保得士光學公司廠區亦使用該含氯有 機溶劑，其地下水均可迴流至系爭場址，俱如前述，顯有 污染之可能性。再二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可 作為電子零組件與光學製品製造業之清洗溶劑成分，且在 同一污染場址，亦常見同時發現上開含氯有機污染物，亦 如前述，俱可證明系爭場址之污染源並非來自臺中加工出 口區外。況且，本件依地下水流向，上開訴願決定書所稱 之北環停車場用地，與系爭場址所在之地下水流方向不合 ，且位置相去甚遠，亦有地下水流向圖、調查結果圖可資 比對（參見本院卷第156頁、第192頁）。因此，原告主張 應受北環停車場用地所影響云云，應與事實不符，並非可 採。另訴外人台灣佳能公司所屬北環新廠，其所使用之臺 中市○○區○區段25-1、25-6地號土地遭受污染，經被告 公告為地下水污染控制場址一事，要屬另案問題，其污染 之原因不一而足，目前尚待被告調查是否因北環立體停車 場用地曾經做為廢溶劑共同暫存用地所致，但已排除臺中 加工出口區以外之污染傳輸至區內情形，已如前述，是尚 難以該公告處分經訴願管轄機關撤銷，即謂其位於臺中加 工出口區西北角，已屬臺中加工出口區邊境，該25-1、25 -6地號土地之地下水驗出之三氯乙烯、四氯乙烯，可能來 自臺中加工出口區以外之土地；及台灣佳能公司所屬北環 新廠所在土地淺層及深層土壤無檢出相關污染物，即無法 確認該北環新廠地下水污染含氯有機溶劑之污染來源等， 均屬事實。從而，原告主張本件污染來源不明確，且本件 原告所使用之系爭場址，其情形與台灣佳能公司所屬北環 新廠所使用上開土地之情形相同，土地淺層及深層土壤均 無檢出相關污染物，自應撤銷原處分云云，均非可採。至 於就原告所引用最高行政法院101年度判字第548號判決， 係認定該涉案場址之上及周界均無法證明三氯乙烯之來源 ，故污染來源不明確，有該判決書附卷可參（參見訴願卷 第13頁至第19頁）。而本件系爭場址之污染來源，為原告 之前手事業及臺中加工出口區內其他多家廠商使用含氯有 機溶劑之結果，且已排除區外為污染來源之可能性，已可 確認其污染來源係來自於臺中加工出口區內，已如前述， 與上開判決認定之結果不同。是原告主張被告所為之認定 違反該判決：「亦知土污法施行細則第8條規定所稱：『 指依查證、調查結果及資料，可判斷或確認造成地下水污 染之物質或位置等資訊。』等語，自非指場址內確有污染 之物質或該污染之物質其位置已屬明確而言，其應係指該 污染之物質係從何而來，亦即已有確實之資訊可判斷或確 認造成污染之根源……」判決意旨云云，亦有所誤解，並 非可採。 （五）雖原告復主張「臺中加工出口區區外，過去諸多照相館、 加工廠或洗衣店，均有使用四氯乙烯，其廢餘四氯乙烯未 經處理，直接排入廢水溝內，自難免污染土壤及地下水； 而四氯乙烯在環境中可能經水解、光解或生物分解後轉為 三氯乙烯。按加工出口區內廠商使用毒性化學物質，其販 入、使用及廢餘處理，均受嚴格控管；區外廠商可能在毒 性化學物質管制建立前，即已開始使用相關毒性化學物質 ，而管制建立之後，對區外廠商之管制相對鬆散。此種情 形，環保機關依據對於加工出區廠商控管之資料，而注意 到加工出口區內土壤與地下水之檢測，卻忽略區外土壤及 地下水之檢測，將無法明確判定其地下水污染從何而來， 自無法有效發揮整治功能，達成土壤及地下水污染整治法 之立法目的。」云云。經查，原告所稱臺中加工出口區區 外之照相館、加工廠或洗衣店，均有使用四氯乙烯，其廢 餘四氯乙烯未經處理，直接排入廢水溝內，自難免污染土 壤及地下水；而四氯乙烯在環境中可能經水解、光解或生 物分解後轉為三氯乙烯等各節，並未具體指出污染廠商為 何，自難以調查認定其主張是否實在。況且，被告所屬環 境保護局調查臺中加工出口區區外廠商使用含氯有機溶劑 之情形，僅有矽品精密工業股份有限公司中山廠使用含氯 有機溶劑（參見本院卷第273頁背面），其餘廠商則均無 使用，有調查範圍區圖、場址勘察訪談紀錄表及事業廢棄 物清理計畫書在卷可稽（參見本院卷第247頁至第280頁） 。惟矽品精密工業股份有限公司設廠於○○區○○路○段 ，位於臺中加工出口區之東北側，有臺中加工出口區地理 位置圖在卷足憑（參見本院卷第189頁）。依照該加工出 口區地下水流向為西北向東南流，當不致影響該加工出口 區。雖原告復舉出益進光學股份有限公司亦使用含氯有機 溶劑云云。但查，該公司係位於潭富路87巷（參見本院卷 第281頁），則位於臺中加工出口區之北側，有上開臺中 加工出口區地理位置圖附卷可參，依照該加工出口區地下 水流向為西北向東南流，當不亦致影響系爭場址。再者， 行政院環境保護署為確認污染物是否有由區外北側流入區 內之可能，在該加工出口區之東北側邊界設置監測井L001 54、北側邊界設置監測井L00152、西北側邊界設置監測井 L00155，調查結果顯示，除東北側之監測井L00154檢測出 0.00175mg/L之微量三氯乙烯外，北側及西北側監測井L00 152、L00155均未測出含氯有機污染物（參見本院卷第156 頁背面）。上開在臺中加工出口區北側邊界設置監測井L0 0152、西北側邊界設置監測井L00155，均未測出含氯有機 污染物，顯已排除臺中加工出口區以外之污染傳輸至系爭 場址之可能性。是原告訴稱臺中加工出口區區外有諸多照 相館、加工廠或洗衣店亦可能為本件之污染源云云，即非 可採。 （六）再按，所謂污染控制場址，係指土壤污染或地下水污染來 源明確之場址，其污染物非自然環境存在經沖刷、流布、 沉積、引灌，致該污染物達土壤或地下水污染管制標準者 ，為前揭土壤及地下水污染整治法第2條第17款所明定。 顯見，該污染物因經沖刷、流布、沉積、引灌而存留在土 壤或地下水中，經檢驗後可以發現，故與水之物理作用有 密切關係。亦即，在雨季期間，遭受污染之土壤或地下水 較易檢出污染物；反之，非雨季期間，則較不易檢出污染 物，應符合一般經驗法則及論理法則。本件原告主張「原 告在今年3月底請環保署認可的合格機構再行檢驗，該次 檢驗環保局也有會同，檢驗結果三氯乙烯與四氯乙烯都低 於管制標準。」云云，並提出臺旭環境科技中心股份有限 公司地下水樣品檢驗報告2紙為證（參見本院卷第229頁至 第230頁）。經查，該採樣時間為103年3月31日，並非豐 水期，依一般經驗法則及論理法則，本較不易檢出污染物 。況且，系爭場址既經行政院環境保護署於101年9月10日 至同年10月20日期間派員前往系爭場址標準監測井（B001 48、B00149）進行地下水採樣工作，樣品經檢測結果三氯 乙烯（TCE）最高為0.104毫克/公升、四氯乙烯（PCE）最 高為0.178mg/L，均超出地下水污染管制標準所定三氯乙 烯0.05mg/L、四氯乙烯0.05mg/L之限值，且經證實該污染 物非自然環境存在，亦非臺中加工出口區以外之污染傳輸 至區內情形，而係來自於臺中加工出口區內，已如前述， 即表示系爭場址確實遭受污染，並非單一次檢測結果未超 過管制標準，即得推論系爭場址並遭受污染。是以，原告 主張其今年3月監測井檢驗水質未超過管制標準云云，亦 難為有利原告事實之認定。 七、綜上所述，被告經查明系爭場址地下水污染來源明確，以原 處分公告系爭場址為地下水污染控制場址，經核並無違誤， 訴願決定予以維持，亦無不合，原告以上開主張，認有違法 ，請求均予撤銷，尚難認為有理由，應予駁回。 八、本件事證已臻明確，兩造其餘陳述於判決結果不生影響，無 庸一一論列，併予敘明。 據上論結，本件原告之訴為無理由，爰依行政訴訟法第98條第1 項前段，判決如主文。 中　　華　　民　　國　　103　 年　　6　　 月　　19　　日 臺中高等行政法院第三庭 審判長法 官　 林 秋 華 法 官　 莊 金 昌 法 官　 劉 錫 賢 以上正本證明與原本無異。 如不服本判決，應於送達後20日內，向本院提出上訴狀，其未表 明上訴理由者，應於提出上訴後20日內向本院補提理由書（均須 按他造人數附繕本）；如於本判決宣示或公告後送達前提起上訴 者，應於判決送達後20日內補提上訴理由書（須附繕本）。未表 明上訴理由者，逕以裁定駁回。 上訴時應委任律師為訴訟代理人，並提出委任書，但符合下列情 形者，得例外不委任律師為訴訟代理人： ┌─────────┬────────────────┐ │得不委任律師為訴訟│ 所 需 要 件 │ │代理人之情形 │ │ ├─────────┼────────────────┤ │（一）符合右列情形│1.上訴人或其法定代理人具備律師資│ │　　　之一者，得不│ 格或為教育部審定合格之大學或獨│ │　　　委任律師為訴│ 立學院公法學教授、副教授者。 │ │　　　訟代理人　 │2.稅務行政事件，上訴人或其法定代│ │ │ 理人具備會計師資格者。 │ │ │3.專利行政事件，上訴人或其法定代│ │ │ 理人具備專利師資格或依法得為專│ │ │ 利代理人者。 │ ├─────────┼────────────────┤ │（二）非律師具有右│1.上訴人之配偶、三親等內之血親、│ │ 列情形之一，│ 二親等內之姻親具備律師資格者。│ │ 經最高行政法│2.稅務行政事件，具備會計師資格者│ │ 院認為適當者│ 。 │ │ ，亦得為上訴│3.專利行政事件，具備專利師資格或│ │ 審訴訟代理人│ 依法得為專利代理人者。 │ │ │4.上訴人為公法人、中央或地方機關│ │ │ 、公法上之非法人團體時，其所屬│ │ │ 專任人員辦理法制、法務、訴願業│ │ │ 務或與訴訟事件相關業務者。 │ ├─────────┴────────────────┤ │是否符合（一）、（二）之情形，而得為強制律師代理之例│ │外，上訴人應於提起上訴或委任時釋明之，並提出（二）所│ │示關係之釋明文書影本及委任書。 │ └──────────────────────────┘ 中　　華　　民　　國　　103　 年　　6　　 月　　19　　日 書記官 杜 秀 君