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裁判字號:
最高行政法院 103 年度判字第 551 號判決
裁判日期:
民國 103 年 10 月 09 日
裁判案由:
土壤及地下水污染整治法
最 高 行 政 法 院 判 決                    103年度判字第551號 上 訴 人 保得士光學股份有限公司 代 表 人 伍必霈 訴訟代理人 吳紹貴 律師       陳立婕 律師 被 上訴 人 臺中市政府 代 表 人 胡志強 訴訟代理人 張訓嘉 律師       張本立 律師 上列當事人間土壤及地下水污染整治法事件,上訴人對於中華民 國103年6月19日臺中高等行政法院103年度訴字第73號判決,提 起上訴,本院判決如下:   主 文 上訴駁回。 上訴審訴訟費用由上訴人負擔。   理 由 一、上訴人在經濟部臺中加工出口區內臺中市○○區○○段○○○ ○號土地(下稱系爭場址,地址為臺中市○○區○○路○○ 號,位置或座標詳如原審卷之航照套繪圖)設廠從事電腦、 電子產品及光學製品製造業,為系爭場址之土地使用人,前 經行政院環境保護署(下稱環保署)執行「高污染潛勢工業 區污染源調查及管制計畫(第二期)」及被上訴人所屬環境 保護局(下稱環保局)執行「臺中市潭子區、北屯區及鄰近 地區地下水含氯有機物調查及查證工作計畫」調查工作,於 民國101年8月21日至同年10月22日期間分別派員前往系爭場 址標準監測井(B00070)進行地下水採樣工作,樣品經檢測 結果三氯乙烯最高為0.268mg/L、四氯乙烯最高為0.384mg/L ,均超出地下水污染管制標準所定限值(三氯乙烯0.05mg /L、四氯乙烯0.05mg/L),案經被上訴人認定該污染物非自 然環境存在,且系爭場址地下水污染來源明確,爰依土壤及 地下水污染整治法第12條第2項規定,以102年7月16日府授 環水字第1020119851號公告(下稱原處分)系爭場址為地下 水污染控制場址,並經被上訴人所屬環保局以102 年8月1日 中市環水字第1020076842號函檢送該公告影本予上訴人。上 訴人不服,提起訴願,經遭駁回,提起行政訴訟,經原審法 院以103年度訴字第73號判決駁回,上訴人猶不服,乃提起 本件上訴。 二、上訴人起訴主張略以:本件上訴人使用之系爭場址土地,縱 使地下水檢測結果,三氯乙烯與四氯乙烯濃度均超過第二類 地下水污染管制標準屬實,惟被上訴人既未能查明該地下水 污染之來源,即將該土地公告為地下水污染控制場址,自屬 違誤。其次,訴外人台灣佳能股份有限公司(下稱台灣佳能 公司)所屬北環新廠,於經濟部臺中加工出口區內臺中市○ ○區○○段25-1、25-6地號土地設廠從事電腦、電子產品及 光學製品製造業,為該土地之使用人,其所使用之臺中市○ 區○○段25-1、25-6地號土地,位於臺中加工出口區西北角 ,該廠以西、以北土地,已非屬臺中加工出口區範圍,依環 保署執行「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二 期):臺中加工出口區」,其尺度調查自記式水位計紀錄所 繪製之臺中加工出口區內地下水流向,北側流向大致為西北 向東南,則該25-1、25-6地號土地之地下水驗出之三氯乙烯 、四氯乙烯,即有可能來自該25-1、25-6地號土地西北方土 地,亦即可能來自臺中加工出口區以外之土地。此種情形, 上開調查及管制計畫之成果報告第六點「調查結果總結」之 1,推斷載稱「依工業區尺度地下水調查……,顯示臺中加 工出口區區外北側及西北側應無相關污染傳輸至區內」云云 ,難認正確無誤。是本件關於上訴人之訴願決定,依上開推 斷,進而判定「足徵原處分機關業已確認造成污染之根源, 難謂不符合地下水污染來源明確之要件」云云,自屬違誤。 事實上,臺中加工出口區區外,過去諸多照相館、加工廠或 洗衣店,均有使用四氯乙烯,其廢餘四氯乙烯未經處理,直 接排入廢水溝內,自難免污染土壤及地下水;而四氯乙烯在 環境中可能經水解、光解或生物分解後轉為三氯乙烯。按加 工出口區內廠商使用毒性化學物質,其販入、使用及廢餘處 理,均受嚴格控管;區外廠商可能在毒性化學物質管制建立 前,即已開始使用相關毒性化學物質,而管制建立之後,對 區外廠商之管制相對鬆散。此種情形,環保機關依據對於加 工出口區廠商控管之資料,而注意到加工出口區內土壤與地 下水之檢測,卻忽略區外土壤及地下水之檢測,將無法明確 判定其地下水污染從何而來,自無法有效發揮整治功能,達 成土壤及地下水污染整治法之立法目的。又上開就台灣佳能 公司所為訴願決定,以台灣佳能公司北環新廠地下水雖有三 氯乙烯及四氯乙烯超過地下水污染管制標準之情形,但淺層 及深層土壤無檢出相關污染物,而認尚無法確認該北環新廠 地下水污染含氯有機溶劑之污染來源,從而撤銷地下水污染 控制場址公告之原處分。按上訴人所使用之系爭場址,雖地 下水有三氯乙烯及四氯乙烯超過地下水污染管制標準之情形 ,但淺層及深層土壤未檢出三氯乙烯及四氯乙烯相關污染物 之情形完全相同,但兩案之訴願決定,其結果卻相反。另關 於上訴人所使用系爭場址,其淺層及深層土壤未檢出三氯乙 烯及四氯乙烯相關污染物,此據經濟部加工出口區管理處臺 中分處召開研商臺中園區內土壤及地下水應變措施會議時, 環保人員口頭說明在案,倘被上訴人否認其事,即請調取相 關檢測報告,以資證明等語,求為判決撤銷原處分及訴願決 定。 三、被上訴人則以:㈠環保署與被上訴人所屬環保局為調查臺中 加工出口區之地下水污染情形及範圍與追查污染源,於臺中 加工出口區內及區外地下水流向之上、下游設置多口監測井 ,其中位於上游之監測井,除較鄰近於臺中加工出口區者曾 有地下水污染物三氯乙烯及四氯乙烯監測濃度檢出微量值外 ,皆無超過管制標準情形,且與臺中加工出口區內各監測井 檢出之三氯乙烯或四氯乙烯濃度有數十倍至數百倍之差異, 顯見臺中加工出口區內之地下水污染源來自於臺中加工出口 區內甚為明確。被上訴人既已查明臺中加工出口區內業者( 含上訴人之前身)曾有產生該污染物質之製程或其他來源位 置,足已排除臺中加工出口區以外之污染傳輸至區內情形, 顯見被上訴人已確認造成污染之根源,難謂不符合地下水污 染來源明確之要件。再查臺中市○○區○○段○○○○號土地 之地下水質,經環保署於該地號設置之地下水監測井採樣檢 測結果,污染物三氯乙烯與四氯乙烯濃度均達污染管制標準 ,確認造成地下水污染之物質為非自然環境存在之三氯乙烯 及四氯乙烯,其污染來源明確且逾管制標準,認就造成地下 水污染之物質或位置等資訊已足以判斷及確認,已符合地下 水污染來源明確之定義。復參本院101年度判字第850號判決 理由六、㈢可知,該地號土地地下水污染情形,符合土壤及 地下水污染整治法第2條第17款、第12條第2項及其施行細則 第8條之規定,依法應公告為地下水污染控制場址。㈡次查 ,台灣佳能公司所屬北環新廠○○○區○○段25-1、25-6 地號)係位於臺中加工出口區內之西北角,區外北側及西北 側因無相關污染傳輸至區內,被上訴人公告上開地號土地為 地下水污染控制場址,經環保署訴願決定撤銷該處分之理由 ,已提及本案調查結果雖已排除臺中加工出口區以外之污染 傳輸至區內情形,惟尚無法確認北環新廠地下水污染含氯有 機溶劑之污染來源,後續尚需針對加工出口區內該等地號旁 ,曾作為加工出口區內廠商廢溶劑共同暫存之北環停車場進 行地下水調查,目前調查結果尚未探就該等地號地下水污染 物之傳輸途徑,難謂符合地下水污染來源明確之要件。惟本 案○○段192地號土地位於臺中加工出口區內,地下水污染 物濃度超過管制標準,除已排除臺中加工出口區外污染傳輸 至該土地情形外,並已查明區內數家業者(含上訴人)曾有 產生對應污染物質之製程或其他來源位置,且周邊亦有土壤 含對應污染物超過污染管制標準情形,足徵已確認污染之根 源,與○○段25-1及25-6地號調查結果自有不同,不可並論 。另由高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期) 期末報告可知,系爭場址之污染來源確實來自於臺中加工出 口區內系爭場址內。㈢又依相關毒性化學物質申報紀錄與許 可紀錄可知,臺中分處轄內上訴人、亞洲光學股份有限公司 (下稱亞洲光學公司)及台灣菱慶股份有限公司(下稱台灣 菱慶公司)均曾使用含氯有機溶劑。而臺中加工出口區內有 廠商使用三氯乙烯之紀錄,其地下水亦查出有地下水三氯乙 烯濃度超過管制標準情事,佐以環保署及被上訴人相關監測 井資料已排除污染物由區外北側傳輸進入區內之可能性乙節 ,系爭場址地下水污染物來源可確認來自於臺中加工出口區 內污染來源明確。另二氯甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯均可作 為電子零件或光學製品清洗劑之用,廠商可能將相關溶劑交 錯使用,以致系爭場址驗出四氯乙烯成分,另依過去查證經 驗顯示實務上亦多檢出三氯乙烯與四氯乙烯同一場址併存之 情形。綜上,系爭場址業經查證確認持續存有地下水污染物 濃度超過管制標準,且其污染來源可據以確認係來自於臺中 加工出口區內,污染來源明確,被上訴人依土壤及地下水污 染整治法第12條及公告作業原則公告該地號土地為地下水污 染控制場址,於法無違等語,資為抗辯,求為判決駁回上訴 人在原審之訴。 四、原審斟酌全辯論意旨及調查證據之結果,以:㈠環保署為掌 握國內高污染潛勢工業區之土壤及地下水品質狀況,委託辦 理「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期)」 ,並作成期末報告及調查成果報告書在卷可稽。上開計畫依 據現場勘查結果並綜合考量地理位置、稽查紀錄、歷年地下 水監測調查資料等因子,在臺中潭子加工出口區部分挑選出 共計5家事業進行工廠調查作業,均檢出污染物濃度超過地 下水污染管制標準,其中亞洲光學公司、上訴人、台灣佳能 公司北環新廠、台灣真珠樂器股份有限公司(下稱台灣真珠 公司)(一、二廠)、台灣菱真電子材料股份有限公司(下 稱台灣菱真公司)5廠之地下水四氯乙烯及三氯乙烯均超過 第二類地下水污染管制標準。其中,上訴人所在地號○○○ 區○○段○○○○號,其地下水三氯乙烯最高濃度0.268mg/L( 地下水污染管制標準:0.05mg/L)、四氯乙烯最高濃度0.38 4mg/L(地下水污染管制標準:0.05mg/L)。經查,本件上 訴人在系爭場址設廠從事電腦、電子產品及光學製品製造業 ,為系爭場址之土地使用人,前經環保署執行上開調查工作 ,101年8月21日至同年10月22日期間派員前往系爭場址標準 監測井(B00070)進行地下水採樣工作,樣品經檢測結果三 氯乙烯最高濃度0.268mg/L、四氯乙烯最高濃度0.384mg/L, 均超出地下水污染管制標準所定三氯乙烯0.05mg/L、四氯乙 烯0.05mg/L之限值,經被上訴人調查發現該污染物非自然環 境存在,且非臺中加工出口區以外之污染傳輸至區內情形, 而係來自於臺中加工出口區內,因而認定系爭場址地下水污 染來源明確,乃依規定,以原處分公告系爭場址為地下水污 染控制場址,並非無據。㈡經查,環保署高污染潛勢工業區 污染源調查及管制計畫(第二期)期末報告第4章「潭子加 工區調查作業」就「地下水污染調查作業」部分之說明,關 於臺中加工出口區地下水流向大致為西北向東南流,環保署 為確認污染物是否有由區外北側流入區內之可能,乃於經濟 部臺中加工出口區之東北側設置監測井L00154、北側設置監 測井L00152、西北側設置監測井L00155 ,調查結果顯示, 除東北側之監測井L00154檢測出0.00175mg/L之微量三氯乙 烯外,北側及西北側監測井L00152、L00155均未測出含氯有 機污染物,又西北側監測井L00152係位於系爭場址之上游, 未測出含氯有機污染物等語,可見系爭場址之污染物係來自 於臺中加工出口區內,而非由區外北側傳輸至區內。雖上開 在臺中加工出口區東北側設置之監測井L00154檢測出0.0017 5mg/L之微量三氯乙烯部分,因該監測井位於系爭場址之東 側,依地下水流方向而言,並不會影響系爭場址,此有地下 水流向圖、調查結果圖可資比對,故系爭污染物亦非由區外 東側傳輸至區內。固然,上訴人、亞洲光學公司與台灣菱真 公司未有其中四氯乙烯一項之申報紀錄,惟此或係因早期相 關管制法規尚未健全,無廢溶劑管理或回收再利用法令,廠 商因此未對四氯乙烯之使用進行申報;又或係廠商所使用之 清洗劑因來源不明或品質不佳,混有一定比例之四氯乙烯, 廠商未經申報即予使用,因而發生實際使用四氯乙烯之結果 ,皆有可能,故難據以推論系爭場址所受之四氯乙烯污染係 從境外傳輸進入區內。再者,土壤及地下水污染整治法第12 條第2項所稱地下水污染來源明確,係指依查證、調查結果 及資料,可判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資訊 ,本件固查無特定廠商申報使用四氯乙烯之資料,致目前無 從判定該項污染行為人為何人,但本件已確認臺中加工出口 區內之廠商確實有使用二氯甲烷及三氯乙烯之情形,且二氯 甲烷、三氯乙烯及四氯乙烯等均可作為電子零組件與光學製 品製造業之清洗溶劑成分,其等有互相取代之功能,實務上 均常見同一場址同時檢出有三氯乙烯及四氯乙烯污染情事, 應可確認系爭污染物確實來自包括上訴人在內之上開廠商使 用前揭含氯有機溶劑之結果,自屬污染來源明確。而無從判 定污染行為人為何人,實屬污染行為人追查問題,尚與污染 來源是否明確,及該等場址應否公告為控制、整治場址之要 件有別。上開上訴人、亞洲光學公司與台灣菱真公司等未有 四氯乙烯之申報紀錄,尚難為有利上訴人事實之認定。是以 ,本件確實可認定系爭場址地下水污染物來源係來自於臺中 加工出口區內,而非他處,其污染來源明確,上訴人主張本 件污染來源有可能來自臺中加工出口區外,地下水污染來源 並不明確云云,並非可採。 ㈢又查,上訴人本身即領有二氯甲烷及三氯乙烯之使用許可 ,並曾於98年至100年申報三氯乙烯及二氯甲烷之運作紀錄 ;另臺中加工出口區內之上述廠商亦確實有使用二氯甲烷及 三氯乙烯之情形,自有污染系爭場址之可能性。再者,上訴 人所稱台灣佳能公司北環新廠部分,固經環保署訴願決定將 被上訴人就該廠所在臺中市○○區○○段25-1、25-6地號公 告為地下水污染控制場址之行政處分撤銷,惟該決定書撤銷 之理由,乃是依地下水流向推測,並無法確認該廠地下水污 染含氯有機溶劑之污染來源,尚需針對北環停車場用地進行 地下水調查等語,且同時亦認定已排除污染源係來自臺中加 工出口區以外傳輸至區內之情形。此部分排除從區外傳輸至 區內之認定與上開說明,並無歧異。再者,依照環保署執行 「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期):臺 中加工出口區」成果報告第7點「後續建議」記載,台灣佳 能公司北環新廠西側之北環立體停車場用地,僅是作為加工 出口區內廠商之廢溶劑共同暫存用地,並非使用該廢溶劑, 是否會造成污染,已有疑問。況且,依上開環保署執行「高 污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期):臺中加 工出口區」成果報告所附臺中加工出口區尺度調查結果記載 ,在環保局計畫檢測時,在系爭場址設置之既設監測井MW1 及MW2,依地下水流向,該訴願決定書所稱之北環停車場用 地,若已影響系爭場址,何以在同一次之採樣過程中,距離 較近(依據該調查結果圖標示之比例尺顯示,兩者距離應有 300公尺以上)之監測井MW1檢測出三氯乙烯及四氯乙烯之濃 度,竟低於距離較遠之監測井MW2檢測出三氯乙烯及四氯乙 烯之濃度?顯非合理。又往南側在MW -3監測井採樣檢驗發 現,其三氯乙烯濃度更升高到0.0401mg /L、四氯乙烯濃度 0.0114mg/L,更足認系爭場址應屬污染源所在。因此,系爭 場址之污染物,應與包括上訴人在內之上開廠商在製程中使 用含氯有機溶劑清洗相關產品有密切關係,並非受到北環立 體停車場用地暫存廢溶劑所影響。是上訴人主張應受北環停 車場用地所影響云云,應與事實不符,並非可採。另訴外人 台灣佳能公司所屬北環新廠,其所使用之臺中市○○區○○ 段25-1、25-6地號土地遭受污染,經被上訴人公告為地下水 污染控制場址一事,要屬另案問題,其污染之原因不一而足 ,目前尚待被上訴人調查是否因北環立體停車場用地曾經作 為廢溶劑共同暫存用地所致,但已排除臺中加工出口區以外 之污染傳輸至區內情形,已如前述,是尚難以該公告處分經 訴願管轄機關撤銷,即謂其係位於臺中加工出口區西北角, 已屬臺中加工出口區邊境,該25-1、25-6地號土地之地下水 驗出之三氯乙烯、四氯乙烯,可能來自臺中加工出口區以外 之土地;及台灣佳能公司所屬北環新廠所在土地淺層及深層 土壤無檢出相關污染物(按本件環保署所執行「高污染潛勢 工業區污染源調查及管制計畫(第二期)並未進行土壤採樣 ),即無法確認該北環新廠地下水污染含氯有機溶劑之污染 來源,均屬事實。從而,上訴人主張本件污染來源不明確, 且本件上訴人所使用之系爭場址,其情形與台灣佳能公司所 屬北環新廠所使用上開土地之情形相同,土地淺層及深層土 壤均無檢出相關污染物,自應撤銷原處分云云,均非可採。 至於就上訴人所引用本院101年度判字第548號判決,係認定 該涉案場址之上及周界均無法證明三氯乙烯之來源,故污染 來源不明確,有該判決書附卷可參。而本件系爭場址之污染 來源,為上訴人及臺中加工出口區內其他多家廠商使用含氯 有機溶劑之結果,且已排除區外為污染來源之可能性,已可 確認其污染來源係來自於臺中加工出口區內,已如前述,與 上開判決認定之結果不同。是上訴人主張被上訴人所為之認 定違反該判決意旨云云,亦有所誤解,並非可採。㈣又上訴 人所稱臺中加工出口區區外之照相館、加工廠或洗衣店,均 有使用四氯乙烯,其廢餘四氯乙烯未經處理,直接排入廢水 溝內,自難免污染土壤及地下水;而四氯乙烯在環境中可能 經水解、光解或生物分解後轉為三氯乙烯等各節,並未具體 指出污染廠商為何,自難以調查認定其主張是否實在。況且 ,被上訴人所屬環保局調查臺中加工出口區區外廠商使用含 氯有機溶劑之情形,僅有矽品精密工業股份有限公司中山廠 使用含氯有機溶劑,其餘廠商則均無使用,有調查範圍區圖 、場址勘察訪談紀錄表及事業廢棄物清理計畫書在卷可稽。 惟矽品精密工業股份有限公司設廠於○○區○○路○段,位 於臺中加工出口區之東北側,依照該加工出口區地下水流向 為西北向東南流,當不致影響該加工出口區。另上訴人復舉 出益進光學股份有限公司亦使用含氯有機溶劑云云。但查, 該公司位於○○路87巷,係位於臺中加工出口區之北側,依 照該加工出口區地下水流向為西北向東南流,當不亦致影響 系爭場址。再者,環保署為確認污染物是否有由區外北側流 入區內之可能,在該加工出口區之東北側邊界設置監測井L0 0154、北側邊界設置監測井L00152、西北側邊界設置監測井 L00155,調查結果顯示,除東北側之監測井L00154檢測出0. 00175mg/L之微量三氯乙烯外,北側及西北側監測井L00152 、L00155均未測出含氯有機污染物。上開在臺中加工出口區 北側邊界設置監測井L00152、西北側邊界設置監測井L00155 ,均未測出含氯有機污染物,顯已排除臺中加工出口區以外 之污染傳輸至系爭場址之可能性。是上訴人訴稱臺中加工出 口區區外有諸多照相館、加工廠或洗衣店亦可能為本件之污 染源云云,即非可採。㈤本件上訴人主張「臺中加工出口區 涉案的5家廠商,在今年3月底請環保署認可的合格機構再行 檢驗,該次檢驗環保局也有會同,檢驗結果三氯乙烯與四氯 乙烯都低於管制標準。」云云,並提出臺旭環境科技中心股 份有限公司地下水樣品檢驗報告5紙為證。經查,該採樣時 間為103年3月31日,並非豐水期,依一般經驗法則及論理法 則,本較不易檢出污染物。況且,系爭場址既經環保署於 101年8月21日至同年10月22日期間派員前往系爭場址標準監 測井(B00070)進行地下水採樣工作,樣品經檢測結果三氯 乙烯、四氯乙烯,均超出地下水污染管制標準所定三氯乙烯 、四氯乙烯之限值,且經證實該污染物非自然環境存在,亦 非臺中加工出口區以外之污染傳輸至區內情形,而係來自於 臺中加工出口區內,已如前述,即表示系爭場址確實遭受污 染,並非單一次檢測結果未超過管制標準,即得推論系爭場 址並遭受污染。是以,上訴人主張其今年3月監測井檢驗水 質未超過管制標準云云,亦難為有利上訴人事實之認定。綜 上所述,被上訴人經查明系爭場址地下水污染來源明確,以 原處分公告系爭場址為地下水污染控制場址,經核並無違誤 ,因將訴願決定及原處分均予維持,駁回上訴人在原審之訴 。 五、本院按: ㈠、按土壤及地下水污染整治法第2條第1、2、5、11、17款分別 規定:「本法用詞,定義如下:1、土壤:指陸上生物生長 或生活之地殼岩石表面之疏鬆天然介質。2、地下水:指流 動或停滯於地面以下之水。5、地下水污染:指地下水因物 質、生物或能量之介入,致變更品質,有影響其正常用途或 危害國民健康及生活環境之虞。11、地下水污染管制標準: 指為防止地下水污染惡化,所訂定之地下水污染管制限度。 17、污染控制場址:指土壤污染或地下水污染來源明確之場 址,其污染物非自然環境存在經沖刷、流布、沉積、引灌, 致該污染物達土壤或地下水污染管制標準者。」第12條第1 、2項規定:「(第1項)各級主管機關對於有土壤或地下水 污染之虞之場址,應即進行查證,並依相關環境保護法規管 制污染源及調查環境污染情形。(第2項)前項場址之土壤 污染或地下水污染來源明確,其土壤或地下水污染物濃度達 土壤或地下水污染管制標準者,直轄市、縣(市)主管機關 應公告為土壤、地下水污染控制場址(以下簡稱控制場址) 。」第27條第1項規定:「各級主管機關依第12條第1項規定 進行場址查證時,如場址地下水污染濃度達地下水污染管制 標準,而污染來源不明確者,直轄市、縣(市)主管機關應 公告劃定地下水受污染使用限制地區及限制事項,依第15條 規定採取應變必要措施,並準用第25條規定辦理。」土壤及 地下水污染整治法施行細則第8條規定:「本法第12條第2項 所稱地下水污染來源明確,指依查證、調查結果及資料,可 判斷或確認造成地下水污染之物質或位置等資訊。」第10條 第1項規定:「各級主管機關依本法第12條第2項及第3項規 定公告控制場址或整治場址時,其公告內容如下:1、污染 行為人姓名或名稱。2、場址名稱。3、場址地址、地號、位 置或座標。4、場址現況概述。5、污染物及污染情形。6、 其他重要事項。」 ㈡、查環保署為掌握國內高污染潛勢工業區之土壤及地下水品質 狀況,委託辦理「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫 (第二期)」,上訴人在系爭場址設廠從事電腦、電子產品 及光學製品製造業,為系爭場址之土地使用人,前經環保署 執行上開調查工作,101年8月21日至同年10月22日期間派員 前往系爭場址標準監測井(B00070)進行地下水採樣工作, 樣品經檢測結果三氯乙烯最高濃度0.268mg/L、四氯乙烯最 高濃度0.384mg/L,均超出地下水污染管制標準所定三氯乙 烯0.05mg/L、四氯乙烯0.05mg/L之限值,經被上訴人調查發 現該污染物非自然環境存在,且非臺中加工出口區以外之污 染傳輸至區內情形,而係來自於臺中加工出口區內,有環保 署「高污染潛勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期): 臺中加工出口區」調查成果報告書節本、期末報告、系爭地 號地下水氯烯類檢測結果、廠商配置圖與地理位置圖、加工 出口區採樣位置及調查結果分布圖、地下水採樣與分析報告 等資料附卷可稽,因而認定系爭場址地下水污染來源明確等 情,業據原審本於職權調查認定之事實予以論明,且於判決 理由欄就上訴人之主張一一論駁,並詳述其得心證之理由, 經核與上開規定相合,亦與經驗法則或證據法則等無違。 ㈢、次按土壤及地下水污染整治法施行細則第8條之規定,土壤 及地下水污染整治法第12條第2項所稱地下水污染來源明確 ,指依查證、調查結果及資料,可判斷或確認造成地下水污 染之物質或位置等資訊。該細則係依土壤及地下水污染整治 法第56條規定,就「地下水污染來源明確」定義為細節性或 技術性規定,並無不符立法意旨或逾越母法規定,法院自得 予以適用。又上述規定所稱之地下水污染來源明確,僅以地 下水污染之物質或位置等資訊,依主管機關查證、調查結果 及資料,得以判斷或確認者,即為已足。至於系爭場址之污 染行為人是否已查明、導致污染結果之其他原因為何(污染 物質以外之原因,如由何一工廠之何項製程所產生之污染) ,與污染來源是否明確並無關聯,並非該等場址應否公告為 控制、整治場址之要件。原審已說明本件確實可認定系爭場 址地下水污染物來源係來自於臺中加工出口區內,而非他處 ,其污染來源明確(原判決事實及理由六㈡參照),則原處 分依土壤及地下水污染整治法第12條第2項公告為控制場址 ,於法並無不合。上訴人主張如認土壤及地下水污染整治法 施行細則第8條之定義只要能判斷或確認「地下水污染之物 質或地下水受污染之位置」,而毋庸判斷或確認「造成地下 水污染之來源物質或來源位置」,即屬「污染來源明確」之 情形,目的解釋上已悖離母法規範目的,與母法有所牴觸, 違反法律保留原則部分,原判決援引上開污染來源明確之定 義,認地下水污染之物質或位置等資訊得以判斷或確認為已 足,有判決不適用法規之違法等情,非屬可採。至原判決關 於查無特定廠商申報使用四氯乙烯之資料,致目前無從判定 該項污染行為人為何人之認定,僅係在說明無從判定污染行 為人為何人,實屬污染行為人追查問題,尚與污染來源是否 明確,及該等場址應否公告為控制、整治場址之要件有別。 縱上訴人所主張之「污染來源明確」,僅係指被上訴人必須 能舉證證明系爭場址確實存在有產生地下水污染物之「來源 物質」或確實為產生地下水污染物之「來源位置」等語,但 此部分之事實,亦經原審認定,業如上述,亦無判決不備理 由之違娛。 ㈣、上訴意旨另謂領有使用許可,不表示實際上確有使用,縱有 使用紀錄,不表示即有污染,原判決另以其他廠區領有二氯 甲烷、三氯乙烯使用許可等情,即認系爭場址污染來源明確 ,亦未就系爭場址之土壤檢測結果並無測出污染物故不致有 污染乙節詳查,違反行政訴訟法第125條第1項及第133條規 定之職權調查原則及判決不備理由之違法云云。經查,原判 決於理由中已論明有關臺中加工出口區內廠商使用三氯乙烯 及四氯乙烯情形部分,上訴人(運作人管制編號:L94A1563 )領有二氯甲烷及三氯乙烯之使用許可,亞洲光學公司(運 作人管制編號:L0000000)領有二氯甲烷、三氯乙烯之使用 許可;台灣菱真公司亦領有二氯甲烷之使用許可(運作人管 制編號:L0000000);而上訴人於98年至100年皆申報三氯 乙烯及二氯甲烷之運作紀錄,台灣菱真公司之前手使用人台 灣菱慶公司於91年至94年間在系爭場址曾有購買暨使用二氯 甲烷與三氯乙烯之申報紀錄,分別有環保署「毒性化學物質 許可管理系統」許可紀錄之查詢結果單、申報紀錄、土壤及 地下水污染整治基金會管理會便簽、環境衛生及毒物管理處 電子公文函覆等件附卷可稽。以系爭場址而言,無論上訴人 、亞洲光學公司、台灣真珠公司或台灣菱真公司等,亦均同 時驗出三氯乙烯及四氯乙烯超過地下水污染管制標準情事, 核已明確論述其事實認定之依據及得心證之理由,另就上訴 人主張系爭土地淺層及深層土壤未檢出相關污染物乙節,亦 已詳予指駁,上訴人猶主張土壤檢測結果並未測出污染物, 足以表示上訴人與上開公司並未使用三氯乙烯或雖使用亦不 致造成污染情形,核屬一己主觀歧異見解,對原審依法判斷 證據證明力及認定事實之職權,加以爭執,委無可採。 ㈤、末按所謂判決不備理由係指判決全然未記載理由,或雖有判 決理由,但其所載理由不明瞭或不完備,不足使人知其主文 所由成立之依據。經核原判決已就駁回上訴人在原審之訴, 明確詳述其得心證之理由,並無判決不備理由之違法。又所 謂判決理由矛盾,係指判決有多項理由,且互相衝突,無以 導出判決之結論而言。原判決就上開環保署執行「高污染潛 勢工業區污染源調查及管制計畫(第二期):臺中加工出口 區」成果報告所附臺中加工出口區尺度調查結果記載,在環 保局計畫檢測時,在系爭場址設置之既設監測井MW1及MW2, 分別檢測出地下水三氯乙烯濃度0.00372mg/L、四氯乙烯濃 度0.00321mg/L(MW1)、三氯乙烯濃度0.0198mg/L、四氯乙 烯濃度0.0122mg/L(MW2)部分,已載明參見原審卷第215頁 ,而該頁已標記檢測時間可供查證。又原處分係依環保署10 1年8月21日至同年10月22日期間派員前往系爭場址標準監測 井(B00070)進行地下水採樣工作,樣品經檢測結果三氯乙 烯最高濃度0.268mg/L、四氯乙烯最高濃度0.384mg/L,均超 出地下水污染管制標準所定三氯乙烯0.05mg/L、四氯乙烯0. 05mg/L之限值,而認定系爭場址地下水污染來源明確等情, 已如前述,二次檢測時間及監測井位置等情節不同,縱上開 監測井MW1及MW2四氯乙烯、三氯乙烯該次檢測結果未超出管 制標準,尚難據為有利於上訴人之認定。另原判決就上訴人 主張應受北環停車場用地所影響乙節,已敘明與事實不符, 就上訴人主張103年3月31日被上訴人會同採樣檢測地下水, 四氯乙烯、三氯乙烯之檢測結果均未超出管制標準部分,亦 詳予指駁。上訴意旨猶主張原判決所指MW1及MW2監測井所測 出之三氯乙烯、四氯乙烯濃度係以何時為採樣標準,並未說 明,縱依上開檢測結果,均未超過標準值,本件並不符合土 壤污染或地下水污染來源明確之要件,況系爭場址地下水中 有機溶劑檢測值是否超標仍屬存疑,原判決未查明,亦未就 此說明上訴人主張有何不可採之處,亦有判決不適用法規、 判決理由矛盾及判決不備理由之違誤等語,均無足採。 ㈥、又本院為法律審,原則上應以高等行政法院判決所確定之事 實為判決基礎,故於高等行政法院判決後,當事人在本院原 則上不得提出新攻擊防禦方法,亦不得提出新事實、新證據 ,而資為上訴之理由。上訴意旨主張其於103年6月20日會同 被上訴人採樣檢測地下水,並未超過管制標準,足以證明本 件並無被上訴人所稱污染之情云云,核係於上訴審提出之新 攻擊防禦方法,本院無從審究。 ㈦、綜上所述,原審已依職權調查證據並斟酌辯論意旨及調查證 據之結果,依論理及證據法則判斷事實而為判決,尚無判決 不適用法規或適用不當之違法;亦難謂有判決不備理由及矛 盾之違法。至於上訴人其餘訴稱各節,乃上訴人以其對法律 上見解之歧異,就原審取捨證據、認定事實之職權行使,指 摘其為不當,均無可採。上訴論旨,仍執前詞,指摘原判決 違背法令,求予廢棄,為無理由,應予駁回。 六、據上論結,本件上訴為無理由。依行政訴訟法第255條第1項 、第98條第1項前段,判決如主文。 中  華  民  國  103  年  10  月  9   日 最高行政法院第五庭 審判長法官 黃 合 文 法官 鄭 忠 仁 法官 劉 介 中 法官 帥 嘉 寶 法官 林 惠 瑜 以 上 正 本 證 明 與 原 本 無 異 中  華  民  國  103  年  10  月  9   日                書記官 王 史 民
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28 29 30 31 32 33 34 35 36 37 38 39 40 41 42 43 44 45 46 47 48 49 50 51 52 53 54 55 56 57 58 59 60 61 62 63 64 65 66 67 68 69 70 71 72 73 74 75 76 77 78 79 80 81 82 83 84 85 86 87 88 89 90 91 92 93 94 95 96 97 98 99 100 101 102 103 104 105 106 107 108 109 110 111 112 113 114 115 116 117 118 119 120 121 122 123 124 125 126 127 128 129 130 131 132 133 134 135 136 137 138 139 140 141 142 143 144 145 146 147 148 149 150 151 152 153 154 155 156 157 158 159 160 161 162 163 164 165 166 167 168 169 170 171 172 173 174 175 176 177 178 179 180 181 182 183 184 185 186 187 188 189 190 191 192 193 194 195 196 197 198 199 200 201 202 203 204 205 206 207 208 209 210 211 212 213 214 215 216 217 218 219 220 221 222 223 224 225 226 227 228 229 230 231 232 233 234 235 236 237 238 239 240 241 242 243 244 245 246 247 248 249 250 251 252 253 254 255 256 257 258 259 260 261 262 263 264 265 266 267 268 269 270 271 272 273 274 275 276 277 278 279 280 281 282 283 284 285 286 287 288 289 290 291 292 293 294 295 296 297 298 299 300 301 302 303 304 305 306 307 308 309 310 311 312 313 314 315 316 317 318 319 320 321 322 323 324 325 326 327 328 329 330 331 332 333 334 335 336 337 338 339 340 341 342 343 344 345 346 347 348 349 350 351 352 353 354 355 356 357 358 359 360 361 362 363 364 365 366 367 368 369 370 371 372 373 374 375 376 377 378 379 380 381 382 383 384 385 386 387 388 389 390 391 392 393 394 395 396 397 398 399 400 401 402 403 404 405 406 407 408 409 410 411 412 413 414 415 416 417 418 419 420 421 422 423 424 425 426 427 428 429 430 431 432 433 434 435 436 437 438 439 440 441 442 443 444 445 446 447 448 449 450 451 452 453 454 455 456 457 458 459 460 461 462 463 464 465 466 467 468 469 470 471 472 473 474 475 476 477 478 479